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1. (WO2007116671) 表面凹凸の作製方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2007/116671 国際出願番号: PCT/JP2007/056162
国際公開日: 18.10.2007 国際出願日: 26.03.2007
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 5/02 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
02
拡散性要素;アフォーカル要素
出願人:
餌取 英樹 ETORI, Hideki [JP/JP]; JP (UsOnly)
株式会社きもと KIMOTO CO., LTD. [JP/JP]; 〒1600022 東京都新宿区新宿二丁目19番1号 Tokyo 19-1, Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP (AllExceptUS)
発明者:
餌取 英樹 ETORI, Hideki; JP
代理人:
多田 公子 TADA, Kimiko; 〒1000013 東京都千代田区霞が関3丁目6番15号 グローリアビル9F Tokyo Gloria Building 9F, 6-15, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
優先権情報:
2006-09339430.03.2006JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR FORMING SURFACE UNEVENNESS
(FR) PROCEDE DE FORMATION D'IRREGULARITE EN SURFACE
(JA) 表面凹凸の作製方法
要約:
(EN) Provided is a method for forming surface unevenness by which a desired uneven shape can be formed easily and highly accurately by using a photomask. On one side of a photosensitive film (10) composed of a photosensitive resin composition, a mask member (20), which has a light transmitting section and a light non-transmitting section, is arranged at an interval from the photosensitive film (10), and a light diffusion layer (30) is arranged between the mask member (20) and the photosensitive film (10). Light is applied from a light source arranged on the side of the mask member (20), a photosensitive film (10) is exposed through the light transmitting section of the mask member (20), the exposed section or the unexposed section of the photosensitive film (10) is removed by development, and unevenness determined by the shape of the exposed section or the unexposed section is formed on the photosensitive film (10). In the exposure, the shape of the exposed section or the unexposed section is controlled by controlling exposure conditions such as haze of the light diffusion layer (30).
(FR) La présente invention concerne un procédé de formation d'irrégularité en surface par lequel une forme irrégulière voulue peut être formée facilement et de manière hautement précise en utilisant un masque photographique. Sur un côté d'un film photosensible (10) composé d'une composition de résine photosensible, un élément de masque (20), qui comporte une section de transmission de lumière et une section de non transmission de lumière, est disposé à un intervalle du film photosensible (10), et une couche de diffusion de lumière (30) est disposée entre l'élément de masque (20) et le film photosensible (10). Une lumière est appliquée à partir d'une source lumineuse disposée sur le côté de l'élément de masque (20), un film photosensible (10) est exposé à travers la section de transmission de lumière de l'élément de masque (20), la section exposée ou la section non exposée du film photosensible (10) est enlevée par développement, et une irrégularité déterminée par la forme de la section exposée ou de la section non exposée est formée sur le film photosensible (10). Lors de l'exposition, la forme de la section exposée ou de la section non exposée est contrôlée en contrôlant des conditions d'exposition telles que la turbidité de la couche de diffusion de lumière (30).
(JA)  フォトマスクを用い、容易かつ高精度に所望の凹凸形状を形成することが可能な表面凹凸の作製方法を提供する。  感光性樹脂組成物からなる感光膜10の一方の側に、光透過部と光不透過部とを有するマスク部材20を感光膜10に対し間隔を持って配置し、マスク部材20と感光膜10との間に光拡散層30を配置し、当該マスク部材20側に配置された光源から光を照射し、マスク部材20の光透過部を通して感光膜10を露光し、感光膜10の露光部或いは未露光部を現像により除去し、感光膜10に露光部或いは末露光部の形状で決まる凹凸を作製する。露光する際に、光拡散層30のヘーズなどの露光条件を制御し、露光部或いは未露光部の形状を制御する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)