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1. (WO2007116669) 洗浄剤組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/116669    国際出願番号:    PCT/JP2007/056158
国際公開日: 18.10.2007 国際出願日: 26.03.2007
IPC:
C11D 3/37 (2006.01), B08B 3/08 (2006.01), C23G 5/036 (2006.01)
出願人: KAO CORPORATION [JP/JP]; 14-10, Nihonbashi-Kayabacho 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038210 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TAMURA, Atsushi; (米国のみ).
HORIO, Yasunori; (米国のみ)
発明者: TAMURA, Atsushi; .
HORIO, Yasunori;
代理人: HOSODA, Yoshinori; c/o Hosoda International Patent Office, P.O. Box 26, OMM Building 5th Floor, 7-31, Otemae 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406591 (JP)
優先権情報:
2006-098588 31.03.2006 JP
2006-345763 22.12.2006 JP
発明の名称: (EN) CLEANING COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE NETTOYAGE
(JA) 洗浄剤組成物
要約: front page image
(EN)Disclosed is a cleaning composition used for cleaning a substrate for recording medium, a substrate for photomask or a substrate for flat panel display, at least the surface of which substrate is provided with a metal or glass base material. This cleaning composition contains a copolymerized compound (I) at least satisfying the following conditions (i)-(iii). (i) A constitutional unit A1 derived from an acrylic acid is not less than 20 mol% of the total constitutional units. (ii) The total of the constitutional unit A1 derived from an acrylic acid and a constitutional unit A2 derived from 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid is not less than 90 mol% of the total constitutional units. (iii) The ratio between the constitutional unit A1 and the constitutional unit A2 [constitutional unit A1 (mol%) / constitutional unit A2 (mol%)] in the total constitutional units is from 91/9 to 95/5.
(FR)L'invention concerne une composition de nettoyage utilisée pour nettoyer un substrat pour support d'enregistrement, un substrat pour masque photographique ou un substrat pour écran plat, au moins la surface dudit substrat étant pourvue d'une matière à base de métal ou de verre. Cette composition de nettoyage contient un composé copolymérisé (I) satisfaisant au moins aux conditions (i)-(iii) suivantes : (i) la quantité d'une unité constitutive A1 dérivée d'un acide acrylique est supérieure ou égale à 20 mol% des unités constitutives totales ; (ii) le total de la quantité de l'unité constitutive A1 dérivée d'un acide acrylique et de la quantité d'une unité constitutive A2 dérivée de l'acide 2-acrylamido-2-méthylpropanesulfonique est supérieur ou égal à 90 mol% des unités constitutives totales ; (iii) le rapport de la quantité de l'unité constitutive A1 sur celle de l'unité constitutive A2 [unité constitutive A1 (mol%)/unité constitutive A2 (mol%)] dans les unités constitutives totales va de 91/9 à 95/5.
(JA)  本発明は、金属質又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物であって、 (I)以下の(i)~(iii)を少なくとも満たす共重合化合物、 (i)アクリル酸由来の構成単位A1が、全構成単位中の20モル%以上である、 (ii)アクリル酸由来の構成単位A1と2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位A2の合計含有量が、全構成単位中の90モル%以上である、 (iii)全構成単位中の構成単位A1と構成単位A2との含有量比[構成単位A1(モル%)/構成単位A2(モル%)]が、91/9~95/5である を含有する洗浄剤組成物に関する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)