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1. (WO2007116664) フッ素含有重合体及び精製方法並びに感放射線性樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/116664    国際出願番号:    PCT/JP2007/056094
国際公開日: 18.10.2007 国際出願日: 23.03.2007
IPC:
C08F 20/22 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: JSR Corporation [JP/JP]; 6-10, Tsukiji 5-chome Chuo-ku, Tokyo 1048410 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKAGAWA, Hiroki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKASHIMA, Hiromitsu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WAKAMATSU, Gouji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HARADA, Kentarou [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NISHIMURA, Yukio [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIOYA, Takeo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAKAGAWA, Hiroki; (JP).
NAKASHIMA, Hiromitsu; (JP).
WAKAMATSU, Gouji; (JP).
HARADA, Kentarou; (JP).
NISHIMURA, Yukio; (JP).
SHIOYA, Takeo; (JP)
代理人: KOJIMA, Seiji; JINGUHIGASHI ATSUTA Bldg. 4F 8-20, Jingu 3-chome, Atsuta-ku Nagoya-shi, Aichi 4560031 (JP)
優先権情報:
2006-099889 31.03.2006 JP
2006-165310 14.06.2006 JP
2006-247299 12.09.2006 JP
2007-010765 19.01.2007 JP
発明の名称: (EN) FLUORINE-CONTAINING POLYMER, PURIFICATION METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) POLYMERE FLUORE, PROCEDE DE PURIFICATION ET COMPOSITION DE RESINE PHOTOSENSIBLE
(JA) フッ素含有重合体及び精製方法並びに感放射線性樹脂組成物
要約: front page image
(EN)Disclosed are a novel fluorine-containing polymer, and a radiation-sensitive resin composition for immersion exposure containing such a polymer. The radiation-sensitive resin composition enables to obtain a pattern having a good shape and excellent depth of focus, while hardly dissolving into water which comes into contact during immersion exposure. In addition, the radiation-sensitive resin composition enables to obtain a large receding contact angle between a resist film and water. Also disclosed is a method for purifying a fluorine-containing polymer. Specifically, the resin composition contains a novel fluorine-containing polymer (A) containing repeating units represented by the general formulae (1) and (2) below and having an Mw of 1,000-50,000, a resin (B) having an acid labile group, a radiation-sensitive acid generator (C), a nitrogen-containing compound (D) and a solvent (E).
(FR)La présente invention concerne un nouveau polymère fluoré et une composition de résine photosensible pour une exposition par immersion contenant un tel polymère. La composition de résine photosensible permet d'obtenir un motif ayant une bonne forme et une excellente profondeur de foyer, tout en étant à peine dissoute dans l'eau qui entre en contact lors de l'exposition par immersion. En outre, la composition de résine photosensible permet d'obtenir un grand angle de contact sortant entre un film de résist et l'eau. La présente invention concerne également un procédé de purification d'un polymère fluoré. Plus spécifiquement, la composition derésine contient un nouveau polymère fluoré (A) contenant des motifs répétitifs représentés par les formules générales (1) et (2) et ayant une masse moléculaire moyenne pondérale (Mw) allant de 1 000 à 50 000, une résine (B) ayant un groupe labile acide, un générateur d'acide photosensible (C), un composé azoté (D) et un solvant (E).
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)