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1. (WO2007114190) 成膜装置及び磁気ディスクの製造方法

Pub. No.:    WO/2007/114190    International Application No.:    PCT/JP2007/056721
Publication Date: Fri Oct 12 01:59:59 CEST 2007 International Filing Date: Thu Mar 29 01:59:59 CEST 2007
IPC: C23C 14/34
C23C 14/50
G11B 5/851
Applicants: HOYA CORPORATION
HOYA株式会社
HOYA MAGNETICS SINGAPORE PTE. LTD.
ホーヤ マグネティクス シンガポール プライベートリミテッド
YASUMORI, Junichi
安森 順一
SAITO, Yujiro
斉藤 祐次郎
MOROISHI, Keiji
諸石 圭二
Inventors: YASUMORI, Junichi
安森 順一
SAITO, Yujiro
斉藤 祐次郎
MOROISHI, Keiji
諸石 圭二
Title: 成膜装置及び磁気ディスクの製造方法
Abstract:
 非導電性の基板を保持する基台と、バイアス印加用端子を基板上に成膜された導電性膜に接触させることによってこの導電性膜にバイアス電圧を印加するバイアス印加手段とを備える。バイアス印加用端子は、形状記憶合金等、温度に応じて形状が変化する部材によって形成されており、温度変化による変形によって、基台上に保持された基板に接離する。