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1. (WO2007114156) 原子層成長装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/114156    国際出願番号:    PCT/JP2007/056622
国際公開日: 11.10.2007 国際出願日: 28.03.2007
IPC:
C23C 16/448 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
出願人: MITSUI ENGINEERING & SHIPBUILDING CO., LTD. [JP/JP]; 6-4, Tsukiji 5-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048439 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TACHIBANA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MURATA, Kazutoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HATTORI, Nozomu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TACHIBANA, Hiroyuki; (JP).
MURATA, Kazutoshi; (JP).
HATTORI, Nozomu; (JP)
代理人: YAMAKAWA, Masaki; c/o Yamakawa International Patent Office 8th Floor, Shuwa-Tameike Building 4-2, Nagatacho 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 1000014 (JP)
優先権情報:
2006-094466 30.03.2006 JP
発明の名称: (EN) ATOMIC LAYER GROWING APPARATUS
(FR) appareil de croissance de couche atomique
(JA) 原子層成長装置
要約: front page image
(EN)An atomic layer growing apparatus is provided with a film forming chamber (101) wherein a film is grown by vapor phase; a substrate table (102), which is arranged inside the film forming chamber (101) and has a heating mechanism; and an exhaust mechanism (104). The apparatus is further provided with a material supply section (105), which is composed of a material vaporizer (151); two buffer tanks, i.e., a buffer tank A (152a) and a buffer tank B (152b), a fill valve A (153a) and a supply valve A (154a) of the buffer tank A (152a); and a fill valve B (153b) and a supply valve B (154b) of the buffer tank B (152b); an introduction control valve (155); and a control section (156) for controlling opening and shutting of each valve.
(FR)L'invention concerne un appareil de croissance de couche atomique pourvu d'une chambre filmogène (101) caractérisé en ce que l'on développe un film par phase vapeur; une table de substrat (102), qui est disposée à l'intérieur de la chambre filmogène (101) et possède un mécanisme de chauffage ; et un mécanisme d'échappement (104). L'appareil est en outre pourvu d'une section d'arrivée de matériau (105), qui est composée d'un vaporisateur de matériau (151); de deux réservoirs tampons, à savoir, un réservoir tampon A (152a) et un réservoir tampon B (152b); d'une valve de remplissage A (153a) et d'une valve d'arrivée A (154a) du réservoir tampon A (152a); et d'une valve de remplissage B (153b) et d'une valve d'arrivée B (154b) du réservoir tampon B (152b); une valve de commande d'introduction (155); et une section de commande (156) permettant de commander l'ouverture et la fermeture de chaque valve.
(JA) 気相による膜の成長が行われる成膜チャンバー(101)と、成膜チャンバー(101)の内部に配置された加熱機構を備えた基板台(102)と、排気機構(104)とを備える。また、原料気化器(151),2つのバッファタンクA(152a)とバッファタンクB(152b),バッファタンクA(152a)の充填弁A(153a)と供給弁A(154a),バッファタンクB(152b)の充填弁B(153b)と供給弁B(154b),導入制御弁(155),及び各弁の開閉を制御する制御部(156)とから構成された原料供給部(105)を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)