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1. (WO2007113901) 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2007/113901 国際出願番号: PCT/JP2006/307109
国際公開日: 11.10.2007 国際出願日: 04.04.2006
IPC:
G03F 7/031 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
031
グループ7/029に包含されない有機化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
出願人:
熊木 尚 KUMAKI, Takashi [JP/JP]; JP (UsOnly)
宮坂 昌宏 MIYASAKA, Masahiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
日立化成工業株式会社 HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 〒1630449 東京都新宿区西新宿2丁目1番1号 Tokyo 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630449, JP (AllExceptUS)
発明者:
熊木 尚 KUMAKI, Takashi; JP
宮坂 昌宏 MIYASAKA, Masahiro; JP
代理人:
長谷川 芳樹 HASEGAWA, Yoshiki; 〒1040061 東京都中央区銀座一丁目10番6号銀座ファーストビル 創英国際特許法律事務所 Tokyo SOEI PATENT AND LAW FIRM Ginza First Bldg. 10-6, Ginza 1-chome Chuo-ku, Tokyo 104-0061, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN AND PROCESS FOR PRODUCTION OF PRINT CIRCUIT BOARD USING THE COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RESINE PHOTOSENSIBLE ET ELEMENT PHOTOSENSIBLE, PROCEDE DE FORMATION D'UN MOTIF DE RESIST ET PROCEDE DE PRODUCTION D'UNE CARTE DE CIRCUIT IMPRIME UTILISANT LA COMPOSITION
(JA) 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
要約:
(EN) A photosensitive resin composition comprising (A) a binder polymer, (B) a photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond therein and (C1) a coumarin derivative having a tertiary amino group therein which is represented by the general formula (1): (1) wherein R1 and R2 independently represent an alkyl group; R3 to R7 independently represent an alkyl group which may have a substituent, a hydrogen atom, a trifluoromethyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester group, a hydroxyl group or a thiol group; and R1 to R7 may together form a cyclic structure.
(FR) La présente invention concerne une composition de résine photosensible comprenant (A) un polymère liant, (B) un composé photopolymérisable ayant dans celui-ci une liaison éthyléniquement insaturée et (C1) un dérivé de coumarine ayant dans celui-ci un groupe amino tertiaire qui est représenté par la formule générale (1) : (1) où R1 et R2 représentent indépendamment un groupe alkyle ; les groupes R3 à R7 représentent indépendamment un groupe alkyle pouvant avoir un substituant, un atome d'hydrogène, un groupe trifluorométhyle, un groupe carboxyle, un groupe ester d'acide carboxylique, un groupe hydroxyle ou un groupe thiol ; et les groupes R1 à R7 peuvent former conjointement une structure cyclique.
(JA)  (A)バインダポリマーと、(B)エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、(C1)下記一般式(1)で表される3級アミノ基含有クマリン誘導体と、を含有する感光性樹脂組成物。   【化1】 [式(1)中、R及びRはそれぞれ独立にアルキル基を示し、R~Rはそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基、水素原子、トリフルオロメチル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、水酸基又はチオール基を示し、R~Rは互いに結合して環状構造を形成していてもよい。]
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)