WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2007111087) パターン形成装置、パターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/111087    国際出願番号:    PCT/JP2007/054240
国際公開日: 04.10.2007 国際出願日: 06.03.2007
IPC:
G03G 15/22 (2006.01), B05D 1/06 (2006.01), B41M 1/10 (2006.01), B41M 1/42 (2006.01), G02B 5/20 (2006.01), G03G 15/10 (2006.01), G03G 15/16 (2006.01), H01J 9/227 (2006.01)
出願人: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA [JP/JP]; 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo1058001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TAKAHASHI, Ken [JP/JP]; (米国のみ).
ISHII, Koichi [JP/JP]; (米国のみ).
TAJIMA, Yoshihiro [JP/JP]; (米国のみ).
SAITO, Mitsunaga [JP/JP]; (米国のみ).
HOSOYA, Masahiro [JP/JP]; (米国のみ).
HIRAHARA, Sachiko [JP/JP]; (米国のみ).
KAWAMURA, Nobuo [JP/JP]; (米国のみ).
YAGI, Hitoshi [JP/JP]; (米国のみ).
NAKAO, Hideyuki [JP/JP]; (米国のみ)
発明者: TAKAHASHI, Ken; .
ISHII, Koichi; .
TAJIMA, Yoshihiro; .
SAITO, Mitsunaga; .
HOSOYA, Masahiro; .
HIRAHARA, Sachiko; .
KAWAMURA, Nobuo; .
YAGI, Hitoshi; .
NAKAO, Hideyuki;
代理人: SUZUYE, Takehiko; c/o SUZUYE & SUZUYE, 1-12-9, Toranomon, Minato-ku Tokyo1050001 (JP)
優先権情報:
2006-086265 27.03.2006 JP
2006-094362 30.03.2006 JP
2006-265648 28.09.2006 JP
2006-265649 28.09.2006 JP
発明の名称: (EN) PATTERN FORMING APPARATUS AND PATTERN FORMING METHOD
(FR) Appareil formant des motifs et procédé de formation de motifs
(JA) パターン形成装置、パターン形成方法
要約: front page image
(EN)At the time of transferring a pattern of toner particles (55) from a recess (14a) of an original plate (1) to a glass plate (5), the thickness of the toner particles (55) to be applied in the recess (14a) in a development process is controlled so as to excellently remove the toner particles (55) from the recess (14a) and transfer them on the glass plate (5). As a thickness (t2) of the toner particle layer to be applied in the recess (14a), a value up to that slightly larger than a distance (T) from the bottom of the recess (14a) to the glass plate (5) is allowed.
(FR)Selon l'invention, au moment du transfert d'un motif de particules de toner (55) depuis un renfoncement (14a) d'un cliché original (1) à une plaque de verre (5), l'épaisseur des particules de toner (55) devant être appliquées dans le renfoncement (14a) lors d'un procédé de développement est contrôlée de manière à retirer entièrement les particules de toner (55) du renfoncement (14a) et les transférer sur la plaque de verre (5). Comme épaisseur (t2) de la couche de particules de toner à appliquer dans le renfoncement (14a), une valeur pouvant être légèrement plus grande que la distance (T) du fond du renfoncement (14a) à la plaque de verre (5) est autorisée.
(JA) トナー粒子55のパターンを原版1の凹部14aからガラス板5に転写する際に、トナー粒子55が凹部14aから良好に剥離してガラス板5に良好に転写されるように、現像工程において凹部14aに充填するトナー粒子55の厚さを制御する。凹部14aに充填するトナー粒子層の厚さt2は、凹部14aの底からガラス板5までの距離Tよりわずかに大きな値まで許容する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)