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1. (WO2007108549) プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/108549    国際出願番号:    PCT/JP2007/056130
国際公開日: 27.09.2007 国際出願日: 16.03.2007
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01), C04B 41/87 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01), C23C 4/10 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, , Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOBAYASHI, Yoshiyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOBAYASHI, Yoshiyuki; (JP)
代理人: OGAWA, Junzo; Kobikikan Ginza Bldg., 8-9, Ginza 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
優先権情報:
2006-076195 20.03.2006 JP
発明の名称: (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING METHOD
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
要約: front page image
(EN)Provided is a plasma processing apparatus wherein durability of a part, a member and a component, which are exposed to plasma atmosphere in a chamber used for performing plasma etching in a corrosion resistant gas atmosphere is improved, resistance to plasma erosion of a film formed on the surface of the member and the like in the corrosion resistant gas atmosphere is improved, and furthermore, generation of particles of corrosion resistant products even under high plasma output is prevented. A plasma processing method using such plasma processing apparatus is also provided. In the plasma processing apparatus for processing the surface of a subject which is stored in the chamber to be processed is processed by etching process gas plasma. The part exposed to the plasma generating atmosphere in the chamber or the member arranged inside the chamber or the surface of the component is coated with at least a porous layer composed of a metal oxide and a secondary recrystallized layer of the metal oxide formed on the porous layer.
(FR)La présente invention concerne un appareil de traitement au plasma, permettant d'améliorer la longévité d'une pièce, d'un élément et d'un composant qui sont exposés à une atmosphère de plasma dans une chambre utilisée pour réaliser une gravure au plasma dans une atmosphère gazeuse résistante à la corrosion, d'améliorer la résistance à l'érosion par le plasma d'un film formé à la surface de l'élément et analogue dans l'atmosphère gazeuse résistante à la corrosion, et également d'éviter la production de particules de produits résistants à la corrosion même avec des débits de plasma élevés. L'invention a également pour objet un procédé de traitement au plasma au moyen de cet appareil de traitement au plasma. Dans l'appareil de traitement au plasma, la surface d'un objet stocké dans la chambre pour y être traitée, est traitée au moyen d'un plasma gazeux de gravure. La partie exposée à l'atmosphère de production de plasma à l'intérieur de la chambre ou l'élément disposé à l'intérieur de la chambre ou la surface du composant est revêtu(e) d'au moins une couche poreuse composée d'un oxyde métallique et d'une couche de recristallisation secondaire de l'oxyde métallique formée sur la couche poreuse.
(JA)腐食性ガス雰囲気中でプラズマエッチング加工をするために使われるチャンバー内のプラズマ雰囲気に曝される部位、部材ならびに部品の耐久性を向上させること、および腐食性ガス雰囲気中での、部材等の表面に形成した皮膜の耐プラズマエロージョン性を向上させること、さらに、高いプラズマ出力下においても、腐食生成物のパーティクルの発生を防ぐことのできるプラズマ処理装置およびそれを用いたプラズマ処理方法を提案する。その手段として、チャンバー内に収容した被処理体表面を、エッチング処理ガスプラズマによって加工するプラズマ処理装置において、このチャンバーのプラズマ生成雰囲気に曝される部位、このチャンバー内配設部材または部品の表面を、少なくとも、金属酸化物からなる多孔質層とその多孔質層上に形成された該金属酸化物の二次再結晶層とによって被覆する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)