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1. WO2007108415 - 露光装置及びデバイス製造方法

公開番号 WO/2007/108415
公開日 27.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/055400
国際出願日 16.03.2007
IPC
H01L 21/027 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
CPC
G03F 7/70275
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70275Multiple projection paths, array of projection systems, microlens projection systems, tandem projection systems
G03F 7/70283
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70283Masks or their effects on the imaging process, e.g. Fourier masks, greyscale masks, holographic masks, phase shift masks, phasemasks, lenticular masks, multiple masks, tilted masks, tandem masks
G03F 7/70425
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70425Imaging strategies, e.g. for increasing throughput, printing product fields larger than the image field, compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching, double patterning
出願人
  • 株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒1008331 東京都千代田区丸の内3丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
  • 長坂 博之 NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者
  • 長坂 博之 NAGASAKA, Hiroyuki; JP
代理人
  • 志賀 正武 SHIGA, Masatake; 〒1048453 東京都中央区八重洲2丁目3番1号 Tokyo 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 1048453, JP
優先権情報
2006-07424517.03.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
(JA) 露光装置及びデバイス製造方法
要約
(EN)
An exposure apparatus is provided with a first optical system (PL) having an optical element (20), which separates entered exposure light (L1) into first exposure light (L11) and second exposure light (L12), outputs the first exposure light (L11) in a first direction, and outputs the second exposure light (L12) in a second direction different from the first direction. The exposure apparatus is also provided with a second optical system (HL), which irradiates a substrate (P) with the second exposure light (L12), which is outputted in the second direction from the optical element (20), with the first exposure light (L11) outputted in the first direction.
(FR)
La présente invention concerne un appareil d'exposition comprenant un système optique (PL) pourvu d'un élément optique (20) qui sépare la lumière d'exposition entrée (L1) en une première lumière d'exposition (L11) et une seconde lumière d'exposition (L12), fait sortir la première lumière d'exposition (L11) dans une première direction et la seconde lumière d'exposition (L12) dans une seconde direction qui diffère de la première direction. L'appareil d'exposition est également pourvu d'un second système optique (HL) qui irradie un substrat (P) avec la seconde lumière d'exposition, délivrée dans la seconde direction par l'élément optique (20), la première lumière d'exposition (L11) étant délivrée dans la première direction.
(JA)
 露光装置は、入射された露光光(L1)を第1露光光(L11)と第2露光光(L12)とに分離し、第1露光光(L11)を第1方向に射出するとともに第2露光光(L12)を第1方向と異なる第2方向に射出する光学素子(20)を有する第1光学システム(PL)と、光学素子(20)から第2方向に射出された第2露光光(L12)を、第1方向に射出された第1露光光(L11)とともに基板(P)上に照射する第2光学システム(HL)とを備えている。
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