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1. WO2007108414 - 露光装置及びデバイス製造方法

公開番号 WO/2007/108414
公開日 27.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/055399
国際出願日 16.03.2007
IPC
H01L 21/027 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
CPC
G03B 27/42
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
27Photographic printing apparatus
32Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
42for automatic sequential copying of the same original
G03F 7/70283
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70283Masks or their effects on the imaging process, e.g. Fourier masks, greyscale masks, holographic masks, phase shift masks, phasemasks, lenticular masks, multiple masks, tilted masks, tandem masks
G03F 7/70466
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70425Imaging strategies, e.g. for increasing throughput, printing product fields larger than the image field, compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching, double patterning
70466Multiple exposures, e.g. combination of fine and coarse exposures, double patterning, multiple exposures for printing a single feature, mix-and-match
出願人
  • 株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒1008331 東京都千代田区丸の内3丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
  • 長坂 博之 NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者
  • 長坂 博之 NAGASAKA, Hiroyuki; JP
代理人
  • 志賀 正武 SHIGA, Masatake; 〒1048453 東京都中央区八重洲2丁目3番1号 Tokyo 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453, JP
優先権情報
2006-07424317.03.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE PRODUCTION METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DUDIT DISPOSITIF
(JA) 露光装置及びデバイス製造方法
要約
(EN)
An exposure apparatus includes an optical element (FL) to which at least two or more of three or more exposure light beams are guided and also includes an optical system (PL) capable of applying the three or more exposure light beams to exposure regions that correspond to the exposure light beams, individually. The device multiply exposes a predetermined region (S) on a substrate (P) with pattern images formed based on the three or more exposure light beams applied to the three or more exposure regions, individually.
(FR)
Un appareil d'exposition comprend un élément optique (FL) vers lequel au moins deux faisceaux de lumière d'exposition sont guidés ainsi qu'un système optique (PL) capable d'appliquer les trois faisceaux de lumière sur des régions d'exposition qui correspondent individuellement aux faisceaux de lumière d'exposition. Le dispositif expose plusieurs fois une région prédéterminée (S) sur un substrat (P) avec des images formées à partir des trois faisceaux de lumière d'exposition appliqués individuellement sur les trois régions d'exposition.
(JA)
 露光装置は、3以上の露光光の少なくとも2以上が導かれる1つの光学素子(FL)を含み、3以上の露光光を、各露光光に対応するそれぞれの露光領域に照射可能な光学システム(PL)を備え、3以上の露光領域のそれぞれに照射される3以上の露光光に基づいて形成される複数のパターンの像で基板(P)上の所定領域(S)を多重露光する。
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