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1. WO2007108291 - 感光性組成物並びにそれを用いた表示装置用遮光膜形成用材料及び感光性転写材料

公開番号 WO/2007/108291
公開日 27.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/053889
国際出願日 01.03.2007
IPC
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
G02B 5/20 2006.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
20フィルター
G03F 7/033 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
027炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032結合剤をもつもの
033結合剤が炭素-炭素不飽和結合を含む反応のみによって得られた重合体であるもの,例.ビニル重合体
CPC
G03F 7/0047
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
0047characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
G03F 7/033
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
032with binders
033the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 〒1068620 東京都港区西麻布2丁目26番30号 Tokyo 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP (AllExceptUS)
  • 吉村 耕作 YOSHIMURA, Kousaku [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 宮宅 一仁 MIYAKE, Kazuhito [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 佐々木 広樹 SASAKI, Hiroki [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者
  • 吉村 耕作 YOSHIMURA, Kousaku; JP
  • 宮宅 一仁 MIYAKE, Kazuhito; JP
  • 佐々木 広樹 SASAKI, Hiroki; JP
代理人
  • 中島 淳 NAKAJIMA, Jun; 〒1600022 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 HK新宿ビル7階 太陽国際特許事務所 Tokyo TAIYO, NAKAJIMA & KATO Seventh Floor, HK-Shinjuku Bldg., 3-17, Shinjuku 4-chome Shinjuku-ku Tokyo 1600022, JP
優先権情報
2006-08177123.03.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND MATERIAL FOR FORMATION OF LIGHT-SHIELD FILM FOR DISPLAY DEVICE OR PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL USING THE COMPOSITION
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE ET MATERIAU POUR LA FORMATION D'UN FILM DE PROTECTION CONTRE LA LUMIERE POUR ECRAN OU MATERIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE UTILISANT LA COMPOSITION
(JA) 感光性組成物並びにそれを用いた表示装置用遮光膜形成用材料及び感光性転写材料
要約
(EN)
Disclosed is a photosensitive composition comprising a metal particle and/or a particle having a metal, an alkali-soluble resin, an addition-polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated double bond, and a photopolymerization initiator, wherein the alkali-soluble resin is a copolymer containing 30 to 90% by mass of a repeat unit B represented by the general formula (1), and having an acid value of 50 mgKOH/g or more and an I/O value of 0.45 to 0.65: (1) wherein R1 represents a hydrogen atom or a methyl group; and R2 represents an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms which may have a ring structure or a branched structure. Also disclosed is a material for the formation of a light-shield film for a display device or a photosensitive transfer material using the composition.
(FR)
La présente invention concerne une composition photosensible comprenant une particule de métal et/ou une particule contenant du métal, une résine alcalino-soluble, un monomère polymérisable par addition ayant une liaison double éthyléniquement insaturée et un initiateur de photopolymérisation, la résine alcalino-soluble étant un copolymère contenant de 30 à 90 % en masse d'un motif répétitif B représenté par la formule générale (1), et ayant un indice d'acidité supérieur ou égal à 50 mg de KOH/g et une valeur I/O de 0,45 à 0,65 : (1) où R1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle ; et R2 représente un groupe alkyle possédant de 2 à 8 atomes de carbone pouvant avoir une structure cyclique ou une structure ramifiée. La présente invention concerne également un matériau pour la formation d'un film de protection contre la lumière pour un écran ou un matériau de transfert photosensible utilisant la composition.
(JA)
not available
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