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1. WO2007108186 - 洗浄処理液

公開番号 WO/2007/108186
公開日 27.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2006/324768
国際出願日 12.12.2006
IPC
C11D 17/08 2006.01
C化学;冶金
11動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく
D洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収
17形状または物理的性質に特徴がある洗浄性物質または石けん
08液体石けん;カプセル化されたもの
C11D 1/22 2006.01
C化学;冶金
11動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく
D洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収
1本質的に表面活性化合物を基とする洗浄剤組成物;その化合物の洗浄剤としての用途
02陰イオン性化合物
12スルホン酸または硫酸エステル;それらの塩
22芳香族化合物から誘導されるもの
C11D 1/72 2006.01
C化学;冶金
11動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく
D洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収
1本質的に表面活性化合物を基とする洗浄剤組成物;その化合物の洗浄剤としての用途
66非イオン性化合物
72ポリオキシアルキレングリコールのエーテル
C11D 3/04 2006.01
C化学;冶金
11動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく
D洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収
31/00に包含される洗浄性組成物の他の配合成分
02無機化合物
04水溶性化合物
G02B 5/20 2006.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
20フィルター
G03F 7/32 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26感光材料の処理;そのための装置
30液体手段を用いる画像様除去
32そのための液体組成物,例.現像剤
CPC
C11D 1/65
CCHEMISTRY; METALLURGY
11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
DDETERGENT COMPOSITIONS
1Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
38Cationic compounds
65Mixtures of anionic with cationic compounds
C11D 1/72
CCHEMISTRY; METALLURGY
11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
DDETERGENT COMPOSITIONS
1Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
66Non-ionic compounds
72Ethers of polyoxyalkylene glycols
G02B 27/0006
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
0006with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
G03F 7/0007
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
G03F 7/0325
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
032with binders
0325the binders being polysaccharides, e.g. cellulose
G03F 7/40
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
40Treatment after imagewise removal, e.g. baking
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 〒1068620 東京都港区西麻布2丁目26番30号 Tokyo 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP (AllExceptUS)
  • 増田 敏幸 MASUDA, Toshiyuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 田中 光利 TANAKA, Mitsutoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者
  • 増田 敏幸 MASUDA, Toshiyuki; JP
  • 田中 光利 TANAKA, Mitsutoshi; JP
代理人
  • 廣田 浩一 HIROTA, Koichi; 〒1510053 東京都渋谷区代々木2-2-13 新宿TRビル4階山の手合同国際特許事務所 Tokyo HIROTA, NAGARE & ASSOCIATES 4th Floor, Shinjuku TR Bldg. 2-2-13, Yoyogi Shibuya-ku, Tokyo 1510053, JP
優先権情報
2006-07773720.03.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) CLEANING TREATMENT LIQUID
(FR) LIQUIDE DE TRAITEMENT DE NETTOYAGE
(JA) 洗浄処理液
要約
(EN)
A cleaning treatment liquid that excels in cleaning removing capability for stain, such as development residue, and that is free from environmental problems and would not deteriorate even in shower idling; and using the cleaning treatment liquid, a method of forming color images, process for producing a color filter and process for producing an array substrate with color filter. There is provided a cleaning treatment liquid characterized by containing a basic compound and at least one surfactant selected from among a phenoxyoxyalkylene surfactant, alkyl ether surfactant and acetylene surfactant having at least one hydroxyl, and containing a naphthalene surfactant.
(FR)
La présente invention concerne un liquide de traitement de nettoyage qui excelle en termes de capacité de nettoyage à éliminer les taches, telle qu'un résidu de développement, et qui préserve l'environnement et ne se détériore pas même dans un ralenti de douche ; et l'utilisation du liquide de traitement de nettoyage, un procédé pour former des images de couleur, un procédé pour produire un filtre de couleur et un procédé pour produire un substrat d'analyse avec un filtre de couleur. La présente invention concerne un liquide de traitement de nettoyage caractérisé en ce qu'il contient un composé basique et au moins un agent tensioactif choisi parmi un agent tensioactif de type phénoxyoxyalkylène, un agent tensioactif de type éther d'alkyle et un agent tensioactif de type acétylène possédant au moins un groupe hydroxyle, et contenant un agent tensioactif de type naphtalène.
(JA)
現像残渣等の汚れの洗浄除去性に優れ、環境問題が無く、空シャワー運転でも劣化しない洗浄処理液、該洗浄処理液を用いた着色画像の形成方法、カラーフィルターの製造方法、及び、カラーフィルター付きアレイ基板の製造方法の提供を目的にする。 塩基性化合物と、少なくとも1つの水酸基を含むアセチレン界面活性剤、アルキルエーテル系界面活性剤、及びフェノキシオキシアルキレン界面活性剤から選択される少なくともいずれかの界面活性剤を少なくとも1種含有し、かつ、ナフタレン系界面活性剤含有することを特徴とする洗浄処理液である。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報