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1. WO2007105674 - エアロゾルデポジション法による成膜体の製造方法

公開番号 WO/2007/105674
公開日 20.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/054789
国際出願日 12.03.2007
IPC
C23C 24/04 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
24無機質粉末から出発する被覆
02圧力のみを加えることによるもの
04粒子の衝撃析出または動力学的析出
C03C 17/23 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
17繊維やフィラメントの形態をとらないガラス,例.結晶化ガラス,の被覆による表面処理
22他の無機物によるもの
23酸化物
CPC
C03C 17/23
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
17Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
22with other inorganic material
23Oxides
C03C 2217/214
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
2217Coatings on glass
20Materials for coating a single layer on glass
21Oxides
214Al2O3
C03C 2218/17
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
2218Methods for coating glass
10Deposition methods
17from a solid phase
C03C 2218/33
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
2218Methods for coating glass
30Aspects of methods for coating glass not covered above
32After-treatment
328Partly or completely removing a coating
33by etching
C23C 24/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
24Coating starting from inorganic powder
02by application of pressure only
04Impact or kinetic deposition of particles
出願人
  • HOYA株式会社 HOYA CORPORATION [JP/JP]; 〒1618525 東京都新宿区中落合2丁目7番5号 Tokyo 7-5, Nakaochiai 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525, JP (AllExceptUS)
  • 三浦 義從 MIURA, Michiyori [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 横山 精一 YOKOYAMA, Seiichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者
  • 三浦 義從 MIURA, Michiyori; JP
  • 横山 精一 YOKOYAMA, Seiichi; JP
代理人
  • 阿仁屋節雄 ANIYA, Setuo; 〒1020072 東京都千代田区飯田橋4丁目6番1号 21東和ビル3階 Tokyo 21 TOWA BLDG. 3F., 4-6-1, Iidabashi, Chiyoda-ku, Tokyo 1020072, JP
優先権情報
2006-06842013.03.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) METHOD FOR FABRICATING FILM-FORMED BODY BY AEROSOL DEPOSITION
(FR) PROCEDE DE FABRICATION PAR DEPOT D'AEROSOL D'UN CORPS FORME A PARTIR D'UN FILM
(JA) エアロゾルデポジション法による成膜体の製造方法
要約
(EN)
There is provided a method for stably fabricating a film-formed body having a film thickness exceeding 30µm by aerosol deposition. The incident angle of raw material microparticles sprayed from a nozzle on a deposition substrate is changed, thereby fabricating the film-formed body while adjusting the balance between etching and deposition of the film.
(FR)
La présente invention concerne un procédé permettant de fabriquer de manière stable, par dépôt d'aérosol, un corps formé à partir d'un film avec une épaisseur de film supérieure à 30 µm. L'angle incident des microparticules de matière brute pulvérisées par une buse sur un substrat de dépôt est modifié, ce qui permet de fabriquer le corps formé à partir d'un film tout en ajustant l'équilibre entre l'attaque et le dépôt du film.
(JA)
 エアロゾルデポジション法により、30μmを超える膜厚の成膜体を安定に製造する方法を提供する。  ノズルから噴射される原料微粒子の被堆積基板への入射角度を変化させ、エッチングと膜の堆積との調和を図りつつ、成膜体を製造する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報