処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

1. WO2007105428 - プラズマ発生装置用ノズル、プラズマ発生装置、プラズマ表面処理装置、プラズマ発生方法およびプラズマ表面処理方法

公開番号 WO/2007/105428
公開日 20.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/053117
国際出願日 13.02.2007
予備審査請求日 19.10.2007
IPC
C23C 16/513 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
16ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44被覆の方法に特徴のあるもの
50放電を用いるもの
513プラズマジェットを用いるもの
H05H 1/26 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
Hプラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1プラズマの生成;プラズマの取扱い
24プラズマの発生
26プラズマトーチ
CPC
C23C 16/513
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
50using electric discharges
513using plasma jets
H05H 1/2406
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
2406Dielectric barrier discharges
H05H 1/26
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
26Plasma torches
H05H 2001/2431
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
2406Dielectric barrier discharges
2431Cylindrical electrodes
H05H 2001/3478
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
26Plasma torches
32using an arc
34Details, e.g. electrodes, nozzles
3415indexing scheme associated with H05H1/34
3478geometrical details
出願人
  • 国立大学法人群馬大学 NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION GUNMA UNIVERSITY [JP/JP]; 〒3710044 群馬県前橋市荒牧町四丁目2番地 Gunma 4-2, Aramaki-machi, Maebashi-shi, Gunma 3710044, JP (AllExceptUS)
  • 株式会社大協精工 DAIKYO SEIKO, LTD. [JP/JP]; 〒1310031 東京都墨田区墨田3丁目38番2号 Tokyo 38-2, Sumida 3-chome, Sumida-ku, Tokyo 1310031, JP (AllExceptUS)
  • 黒田 真一 KURODA, Shin-ichi [JP/JP]; null (UsOnly)
  • 池田 優 IKEDA, Masaru [JP/JP]; null (UsOnly)
発明者
  • 黒田 真一 KURODA, Shin-ichi; null
  • 池田 優 IKEDA, Masaru; null
代理人
  • 平石 利子 HIRAISHI, Toshiko; 〒1050003 東京都港区西新橋1丁目18番15号 Tokyo 18-15, Nishi-Shinbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
優先権情報
2006-03518213.02.2006JP
2006-21872410.08.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PLASMA GENERATION DEVICE NOZZLE, PLASMA GENERATION DEVICE, PLASMA SURFACE TREATMENT DEVICE, PLASMA GENERATION METHOD, AND PLASMA SURFACE TREATMENT METHOD
(FR) BUSE DE DISPOSITIF DE GENERATION DE PLASMA, DISPOSITIF ET PROCEDE DE GENERATION DE PLASMA, DISPOSITIF ET PROCEDE DE TRAITEMENT DE SURFACE DE PLASMA
(JA) プラズマ発生装置用ノズル、プラズマ発生装置、プラズマ表面処理装置、プラズマ発生方法およびプラズマ表面処理方法
要約
(EN)
Provided is a plasma generation device nozzle capable of performing a surface treatment (surface reforming, film formation, etc.) at an arbitrary position and range without being constricted by a shape or size of an object and a plasma generation device having the nozzle. A plasma generation device nozzle (1) has an external electrode (21) formed in a tube shape on an outer circumference of a dielectric cylinder (11) and an internal electrode (22) formed in a tube shape on the inner circumference of the dielectric cylinder (11). The external electrode (21) is formed in a tape shape having a predetermined width along the circumference of the tip end of the dielectric cylinder (11). The internal electrode (22) is formed almost entire internal circumferential surface of the dielectric cylinder (11).
(FR)
La présente invention concerne une buse de dispositif de génération de plasma capable de réaliser un traitement de surface (reformation de surface, formation de film, etc.) à une position arbitraire et une plage sans être contrainte par une forme ou une taille d'un objet et un dispositif de génération de plasma ayant la buse. Une buse d'un dispositif de génération de plasma (1) possède une électrode externe (21) ayant une forme de tube sur une circonférence extérieure d'un cylindre diélectrique (11) et une électrode interne (22) en forme de tube sur la circonférence interne du cylindre diélectrique (11). L'électrode externe (21) a la forme d'une bande ayant une largeur prédéterminée le long de la circonférence de l'extrémité du cylindre diélectrique (11). L'électrode interne (22) a la forme d'une surface circonférentielle presque entière du cylindre diélectrique (11).
(JA)
対象物質の形状や大きさによる制約を受けることなく、任意の場所・範囲の表面処理(表面改質処理・成膜処理等)が可能なプラズマ発生装置用ノズルおよびこのノズルを備えたプラズマ発生装置を提供する。誘電体筒11の外周面に外部電極21が内周面に内部電極22がそれぞれ管状に形成されてなるプラズマ発生装置用ノズル1であって、外部電極21は誘電体筒11の先端側の周に沿って所定幅のテープ状に形成され、内部電極21は誘電体筒11の内周面のほぼ全域にわたり形成されていることを特徴とする。
他の公開
国際事務局に記録されている最新の書誌情報