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1. (WO2007105412) 成膜装置のシーズニング方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/105412    国際出願番号:    PCT/JP2007/052921
国際公開日: 20.09.2007 国際出願日: 19.02.2007
IPC:
H01L 21/205 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 16-5, Konan 2-chome, Minato-ku Tokyo 1088215 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIMAZU, Tadashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAWANO, Yuichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SHIMAZU, Tadashi; (JP).
KAWANO, Yuichi; (JP)
代理人: MITSUISHI, Toshiro; Mitsuishi Law and Patent Office 9-15, Akasaka 1-chome Minato-ku Tokyo 1070052 (JP)
優先権情報:
2006-065415 10.03.2006 JP
発明の名称: (EN) METHOD OF SEASONING FILM-FORMING APPARATUS
(FR) PROCEDE DE VIEILLISSEMENT POUR APPAREIL DE FABRICATION DE FILM
(JA) 成膜装置のシーズニング方法
要約: front page image
(EN)A method of seasoning a film-forming apparatus in which a silicon nitride film is formed on a base placed in a treatment vessel. The method is conducted for diminishing particles in the apparatus. The method comprises subjecting the treatment vessel to plasma cleaning to remove a film deposited on the inner wall thereof (step S1), subsequently depositing an amorphous silicon film (step S2), depositing thereon a silicon nitride film in which the nitrogen content gradually increases in the thickness direction (step S3), and keeping the inside of the treatment vessel being filled with a rare-gas plasma until film formation on the base is initiated (step S4).
(FR)Un procédé de vieillissement pour appareil de fabrication de film dans lequel un film de nitrure de silicium est fabriqué sur une base placée dans un vaisseau de traitement. Le procédé est déroulé pour diminuer les particules dans l'appareil. Le procédé comprend la soumission du vaisseau de traitement à un nettoyage plasma pour retirer le film déposé sur la paroi interne de celui-ci (étape S1), le dépôt ensuite d'un film de silicone amorphe (étape S2), le dépôt par dessus d'un film de nitrure de silicone dans lequel le contenu d'azote augmente progressivement dans la direction de l'épaisseur (étape S3), et le maintien du remplissage de l'intérieur du vaisseau de traitement, avec un plasma de gaz rare, jusqu'à ce que la formation du film sur la base soit débutée (étape S4).
(JA) 処理容器内に収容する基板に窒化珪素膜を成膜する成膜装置において、パーティクルを低減するための成膜装置のシーズニング方法を提供する。そのため、処理容器内壁に付着した膜のプラズマクリーニングを行った後(ステップS1)、アモルファス-シリコン膜を堆積し(ステップS2)、その上に、窒素含有量を厚さ方向に漸増させた窒化珪素膜を堆積し(ステップS3)、基板への成膜が開始されるまで、処理容器内を希ガスのプラズマで維持する(ステップS4)。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)