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1. (WO2007105406) 投影光学系、露光装置および半導体デバイスの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/105406    国際出願番号:    PCT/JP2007/052772
国際公開日: 20.09.2007 国際出願日: 15.02.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G02B 13/14 (2006.01), G02B 13/24 (2006.01), G02B 17/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MURAKAMI, Katsuhiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOMIYA, Takaharu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MURAKAMI, Katsuhiko; (JP).
KOMIYA, Takaharu; (JP)
代理人: OKADA, FUSHIMI AND HIRANO, PC; NE Kudan Bldg., 2-7, Kudan-minami 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1020074 (JP)
優先権情報:
2006-066583 10.03.2006 JP
発明の名称: (EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, ALIGNEUR ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF A SEMI-CONDUCTEURS
(JA) 投影光学系、露光装置および半導体デバイスの製造方法
要約: front page image
(EN)A projection optical system in which OoB irradiation dose on a wafer is reduced while degradation in optical characteristics is suppressed. The projection optical system comprises a first reflector exhibiting a reflectivity lower than a predetermined value to a second wavelength light different from a predetermined first wavelength light, and a second reflector exhibiting a reflectivity higher than the predetermined value to the second wavelength light. When the reflectors in the projection optical system is classified as reflectors (M1, M2, M5, M6) having a high ratio of overlapped reflection regions corresponding to two different points on the wafer, and reflectors (M3, M4) having a low ratio of overlapped reflection regions the uppermost stream reflector (M3) in the optical path of the projection optical system out of reflectors having a low ration of overlapped reflection regions is the second reflector.
(FR)La présente invention concerne un système optique de projection dans lequel une dose d'irradiation OoB sur une tranche est réduite tandis qu'une dégradation en termes de caractéristiques optiques est supprimée. Le système optique de projection comprend un premier réflecteur présentant une réflectivité inférieure à une valeur prédéterminée par rapport à une lumière de seconde longueur d'onde différente par rapport à une lumière de première longueur d'onde prédéterminée, et un second réflecteur présentant une réflectivité supérieure à la valeur prédéterminée par rapport à la lumière de seconde longueur d'onde. Lorsque les réflecteurs dans le système optique de projection sont classés en tant que réflecteurs (M1, M2, M5, M6) ayant une proportion élevée de régions de réflexion superposées correspondant à deux différents points sur la tranche, et réflecteurs (M3, M4) ayant une faible proportion de régions de réflexion superposées, le réflecteur le plus en amont (M3) dans le trajet optique du système optique de projection parmi les réflecteurs ayant une faible proportion de régions de réflexion superposées est le second réflecteur.
(JA) 光学特性の劣化を抑えながら、ウェハ上のOoB照射量を低減した投影光学系を提供する。本発明による投影光学系は、所定の第1波長光とは異なる第2波長光に対する反射率が所定反射率よりも低い第1反射鏡と、前記第2波長光に対する反射率が前記所定反射率よりも高い第2反射鏡と、を有する。投影光学系の反射鏡を、ウェハ上の異なる2点に対応する反射領域が重なり合う比率が大きい反射鏡(M1、M2、M5、M6)と、反射領域が重なり合う比率が小さい反射鏡(M3、M4)と、に分類した場合に、反射領域が重なり合う比率が小さい反射鏡のうち、投影光学系の光路において最上流の反射鏡(M3)を第2反射鏡とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)