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1. WO2007105404 - 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置

公開番号 WO/2007/105404
公開日 20.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/052761
国際出願日 15.02.2007
IPC
G03H 1/02 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Hホログラフィー的方法または装置
1ホログラムを得るためまたはそれらから像を得るために光,赤外または紫外波を用いたホログラフィー的方法または装置;それに特有な細部
02細部
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
G03F 7/038 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
038不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
G11B 7/0065 2006.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
7光学的手段による記録または再生,例.光ビームの照射による記録,低パワー光ビームを用いる再生;そのための記録担体
004記録,再生,または消去の方法;そのための読み取り,書き込み,または消去回路
0065光学的干渉パターンによる記録,再生,または消去,例.ホログラム
G11B 7/24 2006.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
7光学的手段による記録または再生,例.光ビームの照射による記録,低パワー光ビームを用いる再生;そのための記録担体
24形状、構造または物性によって、または材料の選定によって特徴づけられる記録担体
CPC
G03F 7/001
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
001Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
G03F 7/027
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
G03F 7/038
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
G03H 1/02
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
1Holographic processes or apparatus using light, infra-red or ultra-violet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
02Details ; of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
G03H 2001/0264
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
1Holographic processes or apparatus using light, infra-red or ultra-violet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
02Details ; of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
026Recording materials or recording processes
0264Organic recording material
G11B 7/0065
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
7Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation ; by modifying optical properties or the physical structure; , reproducing using an optical beam at lower power ; by sensing optical properties; Record carriers therefor;
004Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
0065Recording, reproducing or erasing by using optical interference patterns, e.g. holograms
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 〒1068620 東京都港区西麻布2丁目26番30号 Tokyo 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP (AllExceptUS)
  • 加茂 誠 KAMO, Makoto [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者
  • 加茂 誠 KAMO, Makoto; JP
代理人
  • 廣田 浩一 HIROTA, Koichi; 〒1510053 東京都渋谷区代々木2-2-13 新宿TRビル4階山の手合同国際特許事務所 Tokyo HIROTA, NAGARE & ASSOCIATES, 4th Floor, Shinjuku TR Bldg., 2-2-13, Yoyogi, Shibuya-ku, Tokyo 1510053, JP
優先権情報
2006-06667510.03.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, OPTICAL RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, OPTICAL RECORDING METHOD, AND OPTICAL RECORDING APPARATUS
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, SUPPORT D'ENREGISTREMENT OPTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, AINSI QUE PROCEDE ET APPAREIL D'ENREGISTREMENT OPTIQUE
(JA) 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置
要約
(EN)
Disclosed is a photosensitive composition containing a photoreactive material (A), an epoxy compound (B) having an average epoxy equivalent weight of not more than 230 g/eq, while containing two or more epoxy groups in a molecule, and a thiol group-containing compound (C). This photosensitive composition is used for forming a recording layer on which information is recorded by using holography. In a preferable mode of such a photosensitive composition, the epoxy compound (B) and the thiol group-containing compound (C) are reacted with each other, thereby forming a polymerized product. Also disclosed is an optical recording medium having a recording layer which is produced from such a photosensitive composition.
(FR)
La présente invention concerne une composition photosensible contenant un matériau photoréactif (A), un composé époxy (B) ayant un poids équivalent moyen d'époxyde n'excédant pas 230 g/eq, tout en contenant deux ou plusieurs groupes époxy dans une molécule, et un composé contenant un groupe thiol (C). Cette composition photosensible est utilisée pour former une couche d'enregistrement sur laquelle des informations sont enregistrées en utilisant une holographie. Dans un mode préférable d'une telle composition photosensible, le composé époxy (B) et le composé contenant un groupe thiol (C) sont faits réagir l'un avec l'autre, formant ainsi un produit polymérisé. L'invention concerne également un support d'enregistrement optique comportant une couche d'enregistrement qui est produite à partir d'une telle composition photosensible.
(JA)
(A)光反応性材料と、(B)平均エポキシ当量が230g/eq以下であり、かつ分子内に2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物と、(C)チオール基含有化合物とを含有してなり、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層の形成に用いられる感光性組成物、該感光性組成物は、前記(B)エポキシ化合物と、前記(C)チオール基含有化合物とが反応して重合物を形成する態様が好ましい、及び該感光性組成物からなる記録層を有する光記録媒体を提供する。
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