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1. WO2007102577 - 光透過性電磁波シールド材の製造方法、光透過性電磁波シールド材、およびディスプレイ用フィルタ

公開番号 WO/2007/102577
公開日 13.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/054526
国際出願日 08.03.2007
IPC
H05K 9/00 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
K印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
9電場または磁場に対する装置または部品の遮へい
B32B 15/08 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
15本質的に金属からなる積層体
04層の主なまたは唯一の構成要素が金属からなり,特定物質の他の層に隣接したもの
08合成樹脂の層に隣接したもの
G02B 1/10 2006.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
1使用物質によって特徴づけられた光学要素;光学要素のための光学的コーティング
10光学要素への塗布または表面処理によって作られた光学的コーティング
CPC
G02B 1/10
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
G02B 5/204
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
20Filters
204in which spectral selection is performed by means of a conductive grid or array, e.g. frequency selective surfaces
H05K 9/0094
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
9Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
0073Shielding materials
0094being light-transmitting, e.g. transparent, translucent
出願人
  • 株式会社ブリヂストン BRIDGESTONE CORPORATION [JP/JP]; 〒1040031 東京都中央区京橋一丁目10番1号 Tokyo 10-1, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP (AllExceptUS)
  • 小坪 秀史 KOTSUBO, Hidefumi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 船木 竜也 FUNAKI, Tatsuya [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 笹木 清美 SASAKI, Kiyomi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者
  • 小坪 秀史 KOTSUBO, Hidefumi; JP
  • 船木 竜也 FUNAKI, Tatsuya; JP
  • 笹木 清美 SASAKI, Kiyomi; JP
代理人
  • 江藤 聡明 ETOH, Toshiaki; 〒1040031 東京都中央区京橋2-8-18 昭和ビル9階 Tokyo Showa Bldg., 9F, 8-18, Kyobashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
優先権情報
2006-06390809.03.2006JP
2006-06391909.03.2006JP
2006-06392909.03.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PROCESS FOR PRODUCING TRANSLUCENT ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING MATERIAL, TRANSLUCENT ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING MATERIAL AND DISPLAY FILTER
(FR) processus de fabrication de matériau de protection contre les ondes électromagnétiques translucide, matériau de protection contre les ondes électromagnétiques translucide et filtre d'affichage
(JA) 光透過性電磁波シールド材の製造方法、光透過性電磁波シールド材、およびディスプレイ用フィルタ
要約
(EN)
A process for producing a translucent electromagnetic wave shielding material with enhanced production efficiency, comprising the steps of: coating a transparent base board with an electroless plating pretreatment agent containing a noble metal compound and a mixture of silane coupling agent and azole compound or reaction product thereof, and drying the same, to thereby provide a pretreatment layer on the transparent base board; forming a dotted plating protective layer on the pretreatment layer; and performing electroless plating on areas of the pretreatment layer exposed without forming of the plating protective layer to thereby provide a meshed metal conductive layer.
(FR)
L'invention concerne un processus de fabrication d'un matériau de protection contre les ondes électromagnétiques translucide d'une efficacité de production améliorée, comprenant les phases suivantes : revêtement d'un panneau de base transparent avec un agent de prétraitement pour placage autocatalytique contenant un composé de métal noble et un mélange d'un agent de couplage silane et d'un composé d'azole ou un produit de réaction de ceux-ci, et séchage de celui-ci, pour ainsi constituer une couche de prétraitement sur le panneau de base transparent ; formation d'une couche de protection vis-à-vis du placage en pointillé sur la couche de prétraitement ; et réalisation d'un placage autocatalytique en des points de la couche de prétraitement exposées sans formation de couche de protection vis-à-vis du placage pour ainsi obtenir une couche conductrice métallique en grille.
(JA)
 製造効率が向上された光透過性電磁波シールド材の製造方法を提供すること。  シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合物または反応生成物、および、貴金属化合物を含む無電解めっき前処理剤を、透明基板上に塗布、乾燥させ、前記透明基板上に前処理層を形成する工程、  前記前処理層上にドット状のめっき保護層を形成する工程、および  前記めっき保護層が形成されずに露出した前記前処理層上に、無電解めっきすることによりメッシュ状の金属導電層を形成する工程、 を含む光透過性電磁波シールド材の製造方法。
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