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1. WO2007102421 - パターン検査システム及びパターン検査方法

公開番号 WO/2007/102421
公開日 13.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/054015
国際出願日 02.03.2007
IPC
G01B 15/00 2006.01
G物理学
01測定;試験
B長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
15波動性または粒子性放射線の使用によって特徴づけられた測定装置
G01N 23/225 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23グループG01N3/00~G01N17/00,G01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
22材料からの二次放射の測定によるもの
225電子またはイオンマイクロプローブを用いるもの
H01J 37/21 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
21焦点を調整するための手段
CPC
H01J 2237/24592
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
245Detection characterised by the variable being measured
24592Inspection and quality control of devices
H01J 2237/2817
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
26Electron or ion microscopes
28Scanning microscopes
2813characterised by the application
2817Pattern inspection
H01J 37/222
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
22Optical or photographic arrangements associated with the tube
222Image processing arrangements associated with the tube
H01J 37/28
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
28with scanning beams
出願人
  • 株式会社アドバンテスト ADVANTEST CORPORATION [JP/JP]; 〒1790071 東京都練馬区旭町1丁目32番1号 Tokyo 32-1, Asahi-cho 1-chome, Nerima-ku, Tokyo 1790071, JP (AllExceptUS)
  • 信太 総一 SHIDA, Soichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者
  • 信太 総一 SHIDA, Soichi; JP
代理人
  • 岡本 啓三 OKAMOTO, Keizo; 〒1030013 東京都中央区日本橋人形町3丁目11番7号 山西ビル4階 岡本国際特許事務所 Tokyo OKAMOTO PATENT OFFICE Yamanishi Bldg., 4F 11-7, Nihonbashi Ningyo-cho 3-chome Chuo-ku, Tokyo 1030013, JP
優先権情報
2006-05949706.03.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PATTERN INSPECTING SYSTEM AND PATTERN INSPECTING METHOD
(FR) système d'inspection de motif et procédé d'inspection de motif
(JA) パターン検査システム及びパターン検査方法
要約
(EN)
[PROBLEMS] To provide a pattern inspecting system and a pattern inspecting method by which a time required for inspecting a pattern formed on a sample can be shortened and accurate inspection can be performed. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A pattern inspecting system is composed of a CAD system and a pattern length measuring apparatus which can communicate each other. The CAD system is composed of a CAD storage section, an information inputting section, a data generating section for generating set-up data by extracting pattern designing information of a pattern included in a specified range to be inspected from the CAD storage section, a CAD control section and a CAD communication section. The pattern length measuring apparatus is composed of a storage section, an automatic measuring data generating section for generating automatic measuring data for performing automatic measurement, a length measuring section for performing automatic focusing and automatically measuring the length of the pattern, a control section and a communicating section. The control section controls the length measuring section to perform automatic focusing within a range specified by the automatic measuring section and then to perform automatic measurement of the pattern length.
(FR)
L'invention concerne un système d'inspection de motif et un procédé d'inspection de motif permettant de raccourcir le temps requis pour l'inspection d'un motif formé sur un échantillon et de réaliser une inspection précise. Le système d'inspection de motif est composé d'un système CAO et d'un appareil de mesure de longueur de motif capables de communiquer l'un avec l'autre. Le système CAO est composé d'une section de stockage CAO, d'une section de saisie d'informations, d'une section de génération de données servant à générer des données de configuration en extrayant des informations de conception de motif incluse dans une plage spécifique à examiner de la section de stockage CAO, d'une section de commande CAO et d'une section de communication CAO. L'appareil de mesure de longueur de motif est composé d'une section de stockage, d'une section de génération de données de mesure automatique servant à générer des données de mesure automatique permettant de réaliser une mesure automatique, d'une section de mesure de longueur servant à réaliser une focalisation automatique et à mesurer automatiquement la longueur du motif, d'une section de commande et d'une section de communication. La section de commande commande la section de mesure de longueur pour réaliser une focalisation automatique dans une plage spécifiée par la section de mesure automatique et pour réaliser une mesure automatique de la longueur de motif.
(JA)
【課題】試料に形成したパターンの検査時間を短縮するとともに、正確な検査をすることのできるパターン検査システム及びパターン検査方法を提供すること。 【解決手段】パターン検査システムは相互に通信可能なCAD装置とパターン測長装置とで構成される。CAD装置は、CAD記憶部と、情報入力部と、指定された検査対象範囲に含まれるのパターンのパターン設計情報をCAD記憶部から抽出してセットアップデータを生成するデータ生成部と、CAD制御部と、CAD通信部とにより構成される。パターン測長装置は、記憶部と、自動測定を行うための自動測定データを生成する自動測定データ生成部と、自動焦点合わせ及びパターンの自動測長を行う測長実行部と、制御部と、通信部とにより構成され、制御部は、測長実行部に前記自動測定データによって指定された範囲の自動焦点合わせを行わせ、その後、パターンの自動測長を行わせる。
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