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1. (WO2007102338) フォトマスク、その作成方法及びそのフォトマスクを用いたパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/102338    国際出願番号:    PCT/JP2007/053604
国際公開日: 13.09.2007 国際出願日: 27.02.2007
IPC:
G03F 1/29 (2012.01), G03F 1/32 (2012.01), G03F 1/54 (2012.01), G03F 1/68 (2012.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MISAKA, Akio; (米国のみ)
発明者: MISAKA, Akio;
代理人: MAEDA, Hiroshi; Osaka-Marubeni Bldg. 5-7, Hommachi 2-chome Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410053 (JP)
優先権情報:
2006-063753 09.03.2006 JP
発明の名称: (EN) PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING SUCH PHOTOMASK AND PATTERN FORMING METHOD USING SUCH PHOTOMASK
(FR) PHOTOMASQUE ET SON PROCEDE DE FABRICATION ET PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF UTILISANT CE PHOTOMASQUE
(JA) フォトマスク、その作成方法及びそのフォトマスクを用いたパターン形成方法
要約: front page image
(EN)On a permeable substrate (100), for instance, a mask pattern, which is composed of a light shielding section (101), and a first translucent section (104A) surrounded by a semi-light shielding section (102) are provided. The mask pattern is provided with a first pattern region and a second pattern region facing each other by having the semi-light shielding section (102) and the first translucent section (104A) in between.
(FR)Selon la présente invention, un substrat perméable (100), par exemple, comprend un motif de masque composé d'une partie de masquage de lumière (101) et une première partie translucide (104A) entourée par une partie de semi-masquage de lumière (102). Le motif de masque comporte une première zone de motif et une seconde zone de motif se faisant face, la partie de semi-masquage de lumière (102) et la première partie translucide (104A) se trouvant entre elles.
(JA) 透過性基板100上に、例えば遮光部101よりなるマスクパターンと、半遮光部102に取り囲まれた第1の透光部104Aとが設けられている。マスクパターンは、半遮光部102及び第1の透光部104Aを挟んで互いに対向する第1のパターン領域及び第2のパターン領域を有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)