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1. WO2007102288 - HCDガスの除害方法とその装置

公開番号 WO/2007/102288
公開日 13.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/051964
国際出願日 06.02.2007
IPC
B01D 53/68 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
D分離
53ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
34廃ガスの化学的または生物学的浄化
46構造が特定される成分の除去
68ハロゲンまたはハロゲン化合物
B01D 53/77 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
D分離
53ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
34廃ガスの化学的または生物学的浄化
74廃ガス浄化のための一般的方法;そのため特に適合した装置または器具
77液相方法
C23C 16/44 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
16ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44被覆の方法に特徴のあるもの
F23G 7/06 2006.01
F機械工学;照明;加熱;武器;爆破
23燃焼装置;燃焼方法
G火葬炉;燃焼により廃棄物または低級燃料を焼却するもの
7特定の廃棄物または低級燃料,例.化学薬品,の燃焼に特に適合した方法または装置,例.焼却炉
06廃ガスまたは有害ガス,例.排気ガス,のためのもの
CPC
B01D 2257/204
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2257Components to be removed
20Halogens or halogen compounds
204Inorganic halogen compounds
B01D 53/68
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
53Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols,
34Chemical or biological purification of waste gases
46Removing components of defined structure
68Halogens or halogen compounds
C23C 16/4412
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
4412Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps
F23G 7/063
FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
23COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
GCREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
7Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
06of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
061with supplementary heating
063electric heating
F23L 7/002
FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
23COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
LSUPPLYING AIR OR NON-COMBUSTIBLE LIQUIDS OR GASES TO COMBUSTION APPARATUS IN GENERAL 
7Supplying non-combustible liquids or gases, other than air, to the fire, e.g. oxygen, steam
002Supplying water
出願人
  • カンケンテクノ株式会社 KANKEN TECHNO CO., LTD. [JP/JP]; 〒6170833 京都府長岡京市神足太田30-2 Kyoto 30-2, Kotari Ota, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6170833, JP (AllExceptUS)
  • 東亞合成株式会社 TOAGOSEI CO., LTD. [JP/JP]; 〒1058419 東京都港区西新橋1丁目14番1号 Tokyo 1-14-1, Nishi-Shimbashi, Minato-ku, Tokyo 1058419, JP (AllExceptUS)
  • 今村 啓志 IMAMURA, Hiroshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 竹内 裕昭 TAKEUCHI, Hiroaki [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 石川 幸二 ISHIKAWA, Koji [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 鈴木 浩 SUZUKI, Hiroshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 守谷 聡 MORIYA, Akira [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 原田 勝可 HARADA, Katsuyoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者
  • 今村 啓志 IMAMURA, Hiroshi; JP
  • 竹内 裕昭 TAKEUCHI, Hiroaki; JP
  • 石川 幸二 ISHIKAWA, Koji; JP
  • 鈴木 浩 SUZUKI, Hiroshi; JP
  • 守谷 聡 MORIYA, Akira; JP
  • 原田 勝可 HARADA, Katsuyoshi; JP
代理人
  • 森 義明 MORI, Yoshiaki; 〒5300001 大阪府大阪市北区梅田1丁目11番4号 大阪駅前第4ビル911 Osaka Room 911, Osaka-Ekimae Dai-4 Bldg. 11-4, Umeda 1-chome, Kita-ku Osaka-shi, Osaka 5300001, JP
優先権情報
2006-06117107.03.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) METHOD OF MAKING HCD GAS HARMLESS AND APPARATUS THEREFOR
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION D'HEXACHLOROSILICIUM GAZEUX SANS DANGER ET APPAREIL CORRESPONDANT
(JA) HCDガスの除害方法とその装置
要約
(EN)
A discharge gas (L) containing hexachlorodisilicon is introduced into a reaction treatment region (K) without moistening the gas. An oxygenous gas (G) containing a slight amount of water is supplied to the reaction treatment region (K) which is kept at a decomposition temperature of hexachlorodisilicon to thereby decompose the hexachlorodisilicon into hydrochloric acid, silicon dioxide, and water. Thus, the treatment of the discharge gas containing hexachlorodisilicon is safely conducted without generating silicoxalic acid or chlorine.
(FR)
Selon le procédé de la présente invention, un effluent gazeux (L) contenant de l'hexachlorodisilicium est introduit dans une région (K) réactionnelle de traitement sans humidifier le gaz. Un gaz oxygéné (G) contenant une petite quantité d'eau est introduit dans ladite région réactionnelle (K), laquelle est maintenue à la température de décomposition de l'hexachlorodisilicium afin de décomposer l'hexachlorodisilicium en acide chlorhydrique, dioxyde de silicium et eau. L'effluent gazeux contenant de l'hexachlorodisilicium subit ainsi un traitement sans danger, qui ne génère ni acide silicoxalique ni chlore.
(JA)
 六塩化二珪素を含む排ガス(L)を、水分を含ませることなく反応処理領域(K)に導入し、六塩化二珪素の分解温度に保たれた反応処理領域(K)に若干の水分を含む有酸素ガス(G)を供給することで六塩化二珪素を塩酸と二酸化珪素および水に分解し、シリコシュウ酸も塩素も発生することなく六塩化二珪素を含む排ガス処理を安全に行う。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報