処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

1. WO2007100078 - スクリーン印刷用感光性インク組成物及びそれを用いたポジ型レリーフパターンの形成方法

公開番号 WO/2007/100078
公開日 07.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/054007
国際出願日 02.03.2007
IPC
C08G 73/10 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
73グループC08G12/00~C08G71/00に属さない,高分子の主鎖に酸素または炭素を有しまたは有せずに窒素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
06高分子の主鎖に窒素含有複素環を有する重縮合物;ポリヒドラジド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
10ポリイミド;ポリエステル―イミド;ポリアミド―イミド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
C09D 11/033 2014.01
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
Dコーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
11インキ
02印刷インキ
03バインダーの化学的性質以外の特性に特徴があるもの
033溶剤に特徴があるもの
C09D 11/10 2014.01
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
Dコーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
11インキ
02印刷インキ
10人造樹脂を基材とするもの
C09D 11/101 2014.01
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
Dコーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
11インキ
02印刷インキ
10人造樹脂を基材とするもの
101波動エネルギーまたは粒子線,例.紫外線による硬化を含む印刷工程に適合するインキ
C09D 11/106 2014.01
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
Dコーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
11インキ
02印刷インキ
10人造樹脂を基材とするもの
106炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によって得られた高分子化合物を含むもの
H05K 3/28 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
K印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3印刷回路を製造するための装置または方法
22印刷回路の2次的処理
28非金属質の保護被覆を施すこと
CPC
C08G 73/106
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
73Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
1057Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
106containing silicon
C08G 77/455
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
77Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
42Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
452containing nitrogen-containing sequences
455containing polyamide, polyesteramide or polyimide sequences
C08L 79/08
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
79Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
C08L 83/10
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
83Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
10Block- or graft-copolymers containing polysiloxane sequences
C09D 11/101
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
11Inks
02Printing inks
10based on artificial resins
101Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
H05K 3/287
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
3Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
22Secondary treatment of printed circuits
28Applying non-metallic protective coatings
285Permanent coating compositions
287Photosensitive compositions
出願人
  • 株式会社ピーアイ技術研究所 PI R & D Co., LTD. [JP/JP]; 〒2360002 神奈川県横浜市金沢区鳥浜町12-5 Kanagawa 12-5, Torihamacho, Kanazawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2360002, JP (AllExceptUS)
  • ウイン モーソー WIN, Maw Soe [MM/JP]; JP (UsOnly)
  • 五島 敏之 GOSHIMA, Toshiyuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 瀬川 繁昌 SEGAWA, Sigemasa [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 中島 慎太郎 NAKAJIMA, Shintaro [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 許 栄花 KYO, Eika [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 西川 義一 NISHIKAWA, Yoshikazu [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 脇 周三 WAKI, Shuzo [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者
  • ウイン モーソー WIN, Maw Soe; JP
  • 五島 敏之 GOSHIMA, Toshiyuki; JP
  • 瀬川 繁昌 SEGAWA, Sigemasa; JP
  • 中島 慎太郎 NAKAJIMA, Shintaro; JP
  • 許 栄花 KYO, Eika; JP
  • 西川 義一 NISHIKAWA, Yoshikazu; JP
  • 脇 周三 WAKI, Shuzo; JP
代理人
  • 谷川 英次郎 TANIGAWA, Hidejiro; 〒1020072 東京都千代田区飯田橋4丁目5番12号岩田ビル6階 谷川国際特許事務所内 Tokyo c/o TANIGAWA AND ASSOCIATES Patent Firm, 6F, Iwata Bldg., 5-12 Iidabashi 4-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1020072, JP
優先権情報
2006-05727303.03.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PHOTOSENSITIVE INK COMPOSITION FOR SCREEN PRINTING AND METHOD OF FORMING POSITIVE RELIEF PATTERN WITH USE THEREOF
(FR) COMPOSITION D'ENCRE PHOTOSENSIBLE POUR SERIGRAPHIE ET PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF EN RELIEF POSITIF L'UTILISANT
(JA) スクリーン印刷用感光性インク組成物及びそれを用いたポジ型レリーフパターンの形成方法
要約
(EN)
A photosensitive ink that when used as an ink for screen printing, forms a film excelling in insulation, heat resistance, low warpage, low elasticity and adherence to base material, and that ensures low possibility of defects, such as screen mesh clogging, blur, thin spot and void, despite repeated screen printing, thus excelling in printing work performance. There is provided a photosensitive ink composition for screen printing, comprising an organic solvent and, dissolved therein, 100 parts by weight of organic-solvent-soluble block copolymer polyimide and 1 to 100 parts by weight of photoacid generator. The block copolymer polyimide contains, as at least moiety of the diamine component, a diamine having a siloxane bond in its molecular skeleton and an aromatic diamine having hydroxyl and/or carboxyl in the ortho position to amino.
(FR)
La présente invention concerne une encre photosensible, laquelle lorsqu'elle est utilisée comme encre pour sérigraphie, forme un film excellant en termes d'isolation, de résistance thermique, de faible déformation, de faible élasticité et d'adhérence à une matière de base, et qui assure une faible possibilité de défauts, tels qu'une obstruction de la maille du tamis, une tache floue, une tache et un vide mince, en dépit d'une sérigraphie répétée, excellant ainsi en termes de rendement d'impression. On propose une composition d'encre photosensible pour sérigraphie, comprenant un solvant organique et, dissoutes dans celui, 100 parties en poids de polyimide copolymère séquencé soluble dans un solvant organique et de 1 à 100 parties en poids du photogénérateur d'acide. Le polyimide copolymère séquencé contient, en tant qu'au moins un fragment du composant diamine, une diamine ayant une liaison siloxane sur son squelette moléculaire et une diamine aromatique ayant un groupe hydroxyle et/ou carboxyle en position ortho par rapport au groupe amino.
(JA)
 スクリーン印刷のインクとして用いた場合、絶縁性、耐熱性、低反り性、低弾性、基材との接着性に優れた被膜を与えることができ、かつ、繰返しスクリーン印刷を行なっても、スクリーンの目詰まりや、にじみ、かすれ、欠け等の不良が生じにくい、印刷作業性の優れた感光性インクが開示されている。スクリーン印刷用の感光性インク組成物は、有機溶媒可溶性ブロック共重合ポリイミド100重量部と、光酸発生剤1~100重量部とが有機溶媒中に溶解されている。ブロック共重合ポリイミドは、ジアミン成分の少なくとも一部として、分子骨格中にシロキサン結合を有するジアミンと、アミノ基に対してオルト位に水酸基及び/又はカルボキシル基を有する芳香族ジアミンとを含む。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報