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1. (WO2007100078) スクリーン印刷用感光性インク組成物及びそれを用いたポジ型レリーフパターンの形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/100078    国際出願番号:    PCT/JP2007/054007
国際公開日: 07.09.2007 国際出願日: 02.03.2007
IPC:
C08G 73/10 (2006.01), C09D 11/033 (2014.01), C09D 11/10 (2014.01), C09D 11/101 (2014.01), C09D 11/106 (2014.01), H05K 3/28 (2006.01)
出願人: PI R & D Co., LTD. [JP/JP]; 12-5, Torihamacho, Kanazawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2360002 (JP) (米国を除く全ての指定国).
WIN, Maw Soe [MM/JP]; (JP) (米国のみ).
GOSHIMA, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SEGAWA, Sigemasa [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAJIMA, Shintaro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KYO, Eika [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NISHIKAWA, Yoshikazu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WAKI, Shuzo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: WIN, Maw Soe; (JP).
GOSHIMA, Toshiyuki; (JP).
SEGAWA, Sigemasa; (JP).
NAKAJIMA, Shintaro; (JP).
KYO, Eika; (JP).
NISHIKAWA, Yoshikazu; (JP).
WAKI, Shuzo; (JP)
代理人: TANIGAWA, Hidejiro; c/o TANIGAWA AND ASSOCIATES Patent Firm, 6F, Iwata Bldg., 5-12 Iidabashi 4-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1020072 (JP)
優先権情報:
2006-057273 03.03.2006 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE INK COMPOSITION FOR SCREEN PRINTING AND METHOD OF FORMING POSITIVE RELIEF PATTERN WITH USE THEREOF
(FR) COMPOSITION D'ENCRE PHOTOSENSIBLE POUR SERIGRAPHIE ET PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF EN RELIEF POSITIF L'UTILISANT
(JA) スクリーン印刷用感光性インク組成物及びそれを用いたポジ型レリーフパターンの形成方法
要約: front page image
(EN)A photosensitive ink that when used as an ink for screen printing, forms a film excelling in insulation, heat resistance, low warpage, low elasticity and adherence to base material, and that ensures low possibility of defects, such as screen mesh clogging, blur, thin spot and void, despite repeated screen printing, thus excelling in printing work performance. There is provided a photosensitive ink composition for screen printing, comprising an organic solvent and, dissolved therein, 100 parts by weight of organic-solvent-soluble block copolymer polyimide and 1 to 100 parts by weight of photoacid generator. The block copolymer polyimide contains, as at least moiety of the diamine component, a diamine having a siloxane bond in its molecular skeleton and an aromatic diamine having hydroxyl and/or carboxyl in the ortho position to amino.
(FR)La présente invention concerne une encre photosensible, laquelle lorsqu'elle est utilisée comme encre pour sérigraphie, forme un film excellant en termes d'isolation, de résistance thermique, de faible déformation, de faible élasticité et d'adhérence à une matière de base, et qui assure une faible possibilité de défauts, tels qu'une obstruction de la maille du tamis, une tache floue, une tache et un vide mince, en dépit d'une sérigraphie répétée, excellant ainsi en termes de rendement d'impression. On propose une composition d'encre photosensible pour sérigraphie, comprenant un solvant organique et, dissoutes dans celui, 100 parties en poids de polyimide copolymère séquencé soluble dans un solvant organique et de 1 à 100 parties en poids du photogénérateur d'acide. Le polyimide copolymère séquencé contient, en tant qu'au moins un fragment du composant diamine, une diamine ayant une liaison siloxane sur son squelette moléculaire et une diamine aromatique ayant un groupe hydroxyle et/ou carboxyle en position ortho par rapport au groupe amino.
(JA) スクリーン印刷のインクとして用いた場合、絶縁性、耐熱性、低反り性、低弾性、基材との接着性に優れた被膜を与えることができ、かつ、繰返しスクリーン印刷を行なっても、スクリーンの目詰まりや、にじみ、かすれ、欠け等の不良が生じにくい、印刷作業性の優れた感光性インクが開示されている。スクリーン印刷用の感光性インク組成物は、有機溶媒可溶性ブロック共重合ポリイミド100重量部と、光酸発生剤1~100重量部とが有機溶媒中に溶解されている。ブロック共重合ポリイミドは、ジアミン成分の少なくとも一部として、分子骨格中にシロキサン結合を有するジアミンと、アミノ基に対してオルト位に水酸基及び/又はカルボキシル基を有する芳香族ジアミンとを含む。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)