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1. WO2007099814 - 中空シリコーン系微粒子の製造方法

公開番号 WO/2007/099814
公開日 07.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/053048
国際出願日 20.02.2007
IPC
C08G 77/06 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
77高分子の主鎖にいおう,窒素,酸素または炭素を有しまたは有せずにけい素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
04ポリシロキサン
06製造法
B01J 13/04 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
J化学的または物理的方法,例.触媒またはコロイド化学;それらの関連装置
13コロイド化学,例.他に分類されないコロイド状物質またはそれらの溶液の生成;マイクロカプセルまたはマイクロバルーンの製造
02マイクロカプセルまたはマイクロバルーンの製造
04物理的プロセスによるもの,例.乾燥,噴霧
CPC
B01J 13/18
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
13Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
02Making microcapsules or microballoons
06by phase separation
14Polymerisation; cross-linking
18In situ polymerisation with all reactants being present in the same phase
C09D 183/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
183Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
04Polysiloxanes
Y10T 428/1397
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
428Stock material or miscellaneous articles
13Hollow or container type article [e.g., tube, vase, etc.]
1352Polymer or resin containing [i.e., natural or synthetic]
1397Single layer [continuous layer]
Y10T 428/249972
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
428Stock material or miscellaneous articles
249921Web or sheet containing structurally defined element or component
249953Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
249971Preformed hollow element-containing
249972Resin or rubber element
出願人
  • 株式会社カネカ KANEKA CORPORATION [JP/JP]; 〒5308288 大阪府大阪市北区中之島三丁目2番4号 Osaka 2-4, Nakanoshima 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308288, JP (AllExceptUS)
  • 高木 彰 TAKAKI, Akira [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 天野 隆光 AMANO, Takamitsu [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 向井 竜太郎 MUKAI, Ryutarou [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者
  • 高木 彰 TAKAKI, Akira; JP
  • 天野 隆光 AMANO, Takamitsu; JP
  • 向井 竜太郎 MUKAI, Ryutarou; JP
共通の代表者
  • 株式会社カネカ KANEKA CORPORATION; 〒5308288 大阪府大阪市北区中之島三丁目2番4号 Osaka 2-4, Nakanoshima 3-chome Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308288, JP
優先権情報
2006-05699902.03.2006JP
2006-27377605.10.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PROCESS FOR PRODUCTION OF HOLLOW SILICONE FINE PARTICLES
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE FINES PARTICULES CREUSES DE SILICONE
(JA) 中空シリコーン系微粒子の製造方法
要約
(EN)
The invention provides hollow silicone fine particles which little collapse and have a narrow diameter distribution and a volume mean diameter of 1μm or below with high productivity. The invention relates to a process for the production of hollow silicone fine particles which is characterized by ridding core-shell particles (D) obtained by covering organic polymer particles and/or organic solvent particles with a silicone compound (C) composed of one or more units selected from among SiO4/2, RSiO3/2 and R2SiO2/2 (wherein R is at least one member selected from among C1-4 alkyl, C6-24 aromatic groups, vinyl, ϝ-(meth)acryloxypropyl, and SH-bearing organic groups) and having an R2SiO2/2 unit content of 20% by mole or below of the organic polymer and/or the organic solvent. A film (F) comprising the hollow silicone fine particles (E) prepared by the process and a film-forming matrix, either alone or together with other film, can be formed on the surface of a substrate.
(FR)
La présente invention concerne de fines particules de silicone qui s'agglomèrent peu et présentent une faible répartition de diamètre ainsi qu'un diamètre moyen en volume de 1 µm, ou inférieur, présentant une productivité élevée. L'invention concerne également un procédé de production de fines particules creuses de silicone qui se caractérise par la purification des particules entières (coque et cœur) (D) obtenue en recouvrant des particules de polymère organique et/ou des particules de solvant organique d'un composé de silicone (C) constitué d'une ou plusieurs unités sélectionnées parmi SiO4/2, RSiO3/2 et R2SiO2/2 (R représentant au moins un membre sélectionné parmi un groupe alkyle en C1 à 4, des groupes aromatiques en C6 à 24, un groupe vinyle, un groupe &ggr;-(méth)acryloxypropyle, et des groupes organiques porteurs de SH) et ayant une teneur en unités de R2SiO2/2 de 20 % par mole, ou inférieure, de polymère organique et/ou de solvant organique. Un film (F) contenant les fines particules creuses de silicone (E) préparées selon le procédé, et une matrice filmogène, seule ou conjointement avec un autre film, peut se former à la surface d'un substrat.
(JA)
 生産性が良く、壊れ難く、粒子径分布の狭い体積平均粒子径が1μm以下の中空シリコーン系微粒子を提供する。  有機高分子粒子および/または有機溶剤からなる粒子を、SiO4/2単位、RSiO3/2単位およびR2SiO2/2単位(式中、Rは、炭素数1乃至4のアルキル基、炭素数6乃至24の芳香族基、ビニル基、γ-(メタ)アクリロキシプロピル基又はSH基をもつ有機基の少なくとも1種を示す)から選ばれる1単位又は2単位以上からなり、R2SiO2/2単位の割合が20モル%以下であるシリコーン系化合物(C)で被覆したコアシェル粒子(D)中の有機高分子および/または有機溶剤を除去することを特徴とする中空シリコーン系微粒子の製造方法である。当該製造法から得られる中空シリコーン系微粒子(E)と被膜形成用マトリックスを含む被膜(F)を単独または他の被膜とともに基材表面上に形成することができる。                                                                                     
国際事務局に記録されている最新の書誌情報