処理中

しばらくお待ちください...

PATENTSCOPE は、メンテナンスのため次の日時に数時間サービスを休止します。サービス休止: 日曜日 05.04.2020 (10:00 午前 CEST)
設定

設定

1. WO2007099799 - セリウム系研摩材

公開番号 WO/2007/099799
公開日 07.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/052934
国際出願日 19.02.2007
IPC
C09K 3/14 2006.01
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3物質であって,他に分類されないもの
14抗スリップ物質;研摩物質
B24B 37/00 2012.01
B処理操作;運輸
24研削;研磨
B研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37ラッピング機械または装置;附属装置
C01F 17/00 2006.01
C化学;冶金
01無機化学
F金属ベリリウム,マグネシウム,アルミニウム,カルシウム,ストロンチウム,バリウム,ラジウム,トリウム化合物または希土類金属化合物
17希土類金属化合物,すなわちスカンジウム,イットリウム,ランタンまたはランタニド・グループ,の化合物
CPC
C01F 17/206
CCHEMISTRY; METALLURGY
01INORGANIC CHEMISTRY
FCOMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
17Compounds of rare earth metals
20Compounds containing only rare earth metals as the metal element
206oxide or hydroxide being the only anion
C01P 2002/72
CCHEMISTRY; METALLURGY
01INORGANIC CHEMISTRY
PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
2002Crystal-structural characteristics
70defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
72by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
C01P 2004/61
CCHEMISTRY; METALLURGY
01INORGANIC CHEMISTRY
PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
2004Particle morphology
60Particles characterised by their size
61Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
C03C 19/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
19Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
C09K 3/1409
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
3Materials not provided for elsewhere
14Anti-slip materials; Abrasives
1409Abrasive particles per se
C09K 3/1463
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
3Materials not provided for elsewhere
14Anti-slip materials; Abrasives
1454Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
1463Aqueous liquid suspensions
出願人
  • 三井金属鉱業株式会社 MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD. [JP/JP]; 〒1418584 東京都品川区大崎1丁目11番1号 Tokyo 1-11-1, Osaki, Shinagawa-ku, Tokyo 1418584, JP (AllExceptUS)
  • 瓜生 博美 URYU, Hiromi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 山▲崎▼ 秀彦 YAMASAKI, Hidehiko [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 小林 大作 KOBAYASHI, Daisaku [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 桑原 滋 KUWABARA, Shigeru [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者
  • 瓜生 博美 URYU, Hiromi; JP
  • 山▲崎▼ 秀彦 YAMASAKI, Hidehiko; JP
  • 小林 大作 KOBAYASHI, Daisaku; JP
  • 桑原 滋 KUWABARA, Shigeru; JP
代理人
  • 特許業務法人 田中・岡崎アンドアソシエイツ TANAKA AND OKAZAKI; 〒1130033 東京都文京区本郷3丁目30番10号 本郷K&Kビル Tokyo Hongo K & K Bldg., 30-10 Hongo 3-chome, Bunkyo-ku Tokyo 1130033, JP
優先権情報
2006-05474901.03.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) CERIUM-BASED ABRASIVE MATERIAL
(FR) MATERIAU ABRASIF A BASE DE CERIUM
(JA) セリウム系研摩材
要約
(EN)
A cerium-based abrasive material which inhibits polishing scratches from generating and attains a significantly improved polishing rate. The cerium-based abrasive material has a cerium oxide content of 95 mass% or higher based on the total rare-earth oxides (TREO), and is characterized in that the particle diameter (D50) corresponding to the cumulative volume of 50% from the small-particle-diameter side in examination by the laser diffraction/scattering method is 1.3-4.0 µm. When analyzed by X-ray diffractometry with a Cu-K&agr;1 line, the cerium-based abrasive material preferably is one in which the maximum peak for cerium oxide has a half band width of 0.1-0.5° in terms of 2&thetas;.
(FR)
La présente invention concerne un matériau abrasif à base de cérium qui empêche l'apparition de rayures au polissage et permet d'atteindre un taux de polissage significativement amélioré. Le matériau abrasif à base de cérium présente une teneur en oxyde de cérium de 95 % en masse ou plus rapporté aux oxydes de terre rare totaux (TREO), et se caractérise en ce que le diamètre de la particule (D50), correspondant au volume cumulatif de 50 % de la dimension du diamètre de la petite particule et évalué par le biais de la méthode de diffraction/diffusion laser, est compris entre 1,3 et 4,0 µm. Lorsqu'il est analysé par diffractométrie de rayons X avec une lignée Cu-Kα1, le matériau abrasif à base de cérium est de préférence un matériau au sein duquel le pic maximum pour l'oxyde de cérium comporte une demie largeur de bande comprise entre 0,1 et 0,5 en termes de 2ϑ.
(JA)
 本願発明は、研摩傷の発生を抑制しつつ、研摩速度が大きく改良された、セリウム系研摩材の提供を目的とする。本願発明は、全希土類酸化物(TREO)に対する酸化セリウム含有量が、95質量%以上であるセリウム系研摩材であって、レーザ回折・散乱法による、小粒径側からの累積体積50%の粒径(D50)値が、1.3~4.0μmであることを特徴とするセリウム系研摩材に関する。また、本願発明のセリウム系研摩材は、Cu-Kα線に基づくX線回折分析による、酸化セリウムの最大ピークの半値幅が、2θで0.1~0.5°であることが好ましい。
他の公開
国際事務局に記録されている最新の書誌情報