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1. WO2007099754 - 磁気記録媒体用基板及びその製造方法

公開番号 WO/2007/099754
公開日 07.09.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/052226
国際出願日 08.02.2007
IPC
G11B 5/738 2006.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
62材料の選択によって特徴づけられる記録担体
73ベース層によって特徴づけられるもの
738中間層により特徴づけられるもの
G11B 5/73 2006.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
62材料の選択によって特徴づけられる記録担体
73ベース層によって特徴づけられるもの
G11B 5/84 2006.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84記録担体の製造に特に適合する方法または装置
CPC
G11B 5/7315
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
5Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
62Record carriers characterised by the selection of the material
73Base layers ; , i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
731without bonding agent in the material
7315substrates
G11B 5/8404
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
5Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
8404manufacturing base layers
出願人
  • コニカミノルタオプト株式会社 Konica Minolta Opto, Inc. [JP/JP]; 〒1928505 東京都八王子市石川町2970番地 Tokyo 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505, JP (AllExceptUS)
  • 正木 義治 MASAKI, Yoshiharu [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 小林 肇 KOBAYASHI, Hajime [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 河合 秀樹 KAWAI, Hideki [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 中野 智史 NAKANO, Satoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 細江 秀 HOSOE, Shigeru [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者
  • 正木 義治 MASAKI, Yoshiharu; JP
  • 小林 肇 KOBAYASHI, Hajime; JP
  • 河合 秀樹 KAWAI, Hideki; JP
  • 中野 智史 NAKANO, Satoshi; JP
  • 細江 秀 HOSOE, Shigeru; JP
優先権情報
2006-05716203.03.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SUBSTRATE FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR MANUFACTURING SUCH SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNETIQUE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
(JA) 磁気記録媒体用基板及びその製造方法
要約
(EN)
Provided is a substrate for a magnetic recording medium, by which adhesiveness between a coat layer formed on the substrate and the substrate is improved, while maintaining the coat layer smooth. The coat layer is formed on the surface of the substrate, and the coat layer is divided into a plurality of areas by concentric grooves and radial grooves. Since the coat layer is divided into areas, even when the expansion coefficient of the substrate is different from that of the coat layer, stress applied to the coat layer can be modified, and adhesiveness between the substrate and the coat layer is improved. Thus, generation of peeling and cracks of the coat layer can be prevented.
(FR)
La présente invention concerne un substrat pour un support d'enregistrement magnétique, grâce auquel l'adhérence entre une couche de revêtement formée sur le substrat et le substrat est améliorée, tout en maintenant la couche de revêtement lisse. La couche de revêtement est formée sur la surface du substrat, et la couche de revêtement est divisée en une pluralité d'aires par des cannelures concentriques et des cannelures radiales. Etant donné que la couche de revêtement est divisée en aires, même lorsque le coefficient de dilatation du substrat est différent de celui de la couche de revêtement, la contrainte appliquée à la couche de revêtement peut être modifiée, et l'adhérence entre le substrat et la couche de revêtement est améliorée. Ainsi, on peut empêcher la production de pelures et de fissures de la couche de revêtement.
(JA)
 本発明は、基板上に形成される被覆層を平滑面に維持しつつ、被覆層と基板との密着性を向上させることが可能な磁気記録媒体用基板を提供することを目的とする。この基板の表面上に被覆層が形成され、その被覆層は同心円状の溝と、放射状の溝とによって複数の領域に分割されている。このように、被覆層が複数の領域に分割されていることにより、基板と被覆層の膨張係数が異なっても、被覆層に加わる応力を緩和することができ、基板と被覆層との密着度を高めることが可能となる。これにより、被覆層の剥離や亀裂の発生などを防止することが可能となる。
他の公開
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