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1. (WO2007091602) 銅めっき被膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/091602    国際出願番号:    PCT/JP2007/052131
国際公開日: 16.08.2007 国際出願日: 07.02.2007
IPC:
C25D 3/38 (2006.01), C25D 7/00 (2006.01), H01F 41/02 (2006.01)
出願人: Hitachi Metals, Ltd. [JP/JP]; 1-2-1, Shibaura, Minato-ku, Tokyo 1058614 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NIINAE, Toshinobu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NIINAE, Toshinobu; (JP)
代理人: SHIMIZU, Yoshihiro; 3rd Floor, Yashiro Building 14-4, Takadanobaba 2-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1690075 (JP)
優先権情報:
2006-029983 07.02.2006 JP
発明の名称: (EN) PROCESS FOR PRODUCTION OF RARE EARTH PERMANENT MAGNETS HAVING COPPER PLATING FILMS ON THE SURFACES
(FR) procEde de fabrication d'aimants PERMANENTS de terre rare possédant des films de placage de cuivre SUR lEURS surfaceS
(JA) 銅めっき被膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法
要約: front page image
(EN)A process for the production of rare earth permanent magnets having copper plating films on the surfaces by using a novel copper electroplating solution which can form copper plating films on the surfaces of rare earth permanent magnets with excellent close adhesion to the surfaces. The process is characterized by forming a copper plating film on the surface of a rare earth permanent magnet by copper electroplating with a plating solution whose pH is adjusted to 9.0 to 11.5 and which contains (1) Cu2+ ions, (2) an organic phosphoric acid having two or more phosphorus atoms and/or a salt thereof, (3) gluconic acid and/or a salt thereof, (4) a sulfuric acid salt and/or a nitric acid salt, and (5) at least one organic acid selected from among oxalic acid, tartaric acid, citric acid, malonic acid, and malic acid and/or a salt thereof (with the proviso that copper salts are excepted from the components (2) to (5)).
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'aimants permanents de terre rare présentant des films de placage de cuivre sur leurs surfaces en utilisant une solution de galvanoplastie de cuivre novatrice capable d'élaborer des films de placage de cuivre à la surface d'aimants permanents de terre rare avec une excellente adhérence aux surfaces. Le procédé est caractérisé par la formation d'un film de placage de cuivre à la surface d'un aimant permanent de terre rare par galvanoplastie au cuivre avec une solution de placage dont le pH est réglé sur 9,0 à 11,5 et contenant (1) des ions Cu2+, (2) un acide phosphorique organique présentant deux atomes de phosphore ou plus et/ou un sel de celui-ci, (3) de l'acide gluconique et/ou un sel de celui-ci, (4) un sel d'acide sulfurique et/ou un sel d'acide nitrique, et (5) au moins un acide organique sélectionné parmi l'acide oxalique, l'acide tartrique, l'acide citrique, l'acide malonique, et l'acide malique et/ou un sel de celui-ci (sous réserve que les sels de cuivre n'entrent pas dans la constitution des composants (2) à (5)).
(JA) 本発明の課題は、希土類系永久磁石の表面に密着性に優れた銅めっき被膜を形成することができる、新規な電気銅めっき処理用めっき液を使用した、銅めっき被膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法を提供することである。その解決手段としての本発明の銅めっき被膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法は、pHが9.0~11.5に調整され、(1)Cu2+イオン、(2)リン原子数が2以上の有機リン酸および/またはその塩、(3)グルコン酸および/またはその塩、(4)硫酸塩および/または硝酸塩、(5)シュウ酸、酒石酸、クエン酸、マロン酸、リンゴ酸から選ばれる少なくとも1つの有機カルボン酸および/またはその塩を少なくとも含有するめっき液{ただし(2)~(5)の成分から銅塩は除く}を使用して、電気銅めっき処理により、希土類系永久磁石の表面に銅めっき被膜を形成することを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)