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1. (WO2007091435) プラズマ処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/091435    国際出願番号:    PCT/JP2007/051294
国際公開日: 16.08.2007 国際出願日: 26.01.2007
IPC:
H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TIAN, Caizhong [CN/JP]; (JP) (米国のみ).
NOZAWA, Toshihisa [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TIAN, Caizhong; (JP).
NOZAWA, Toshihisa; (JP)
代理人: YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office, Room 323, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2006-030234 07.02.2006 JP
発明の名称: (EN) PLASMA TREATMENT APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) プラズマ処理装置
要約: front page image
(EN)Provided is a plasma treatment apparatus capable of preventing an unnecessary sticking film from being deposited in a treatment container using plasma. The plasma treatment apparatus (32) comprises a treatment container (34) having an opened ceiling portion (54a), side walls (34a) and a bottom portion (34b) and made internally evacuative, a placing bed (36) mounted in the treatment container (34) for placing a work (W) thereon, a ceiling plate (54) mounted gastight in the ceiling portion (54a) and made of a dielectric material for transmitting a microwave therethrough, a planar antenna member (58) mounted on the upper face of the ceiling plate (54) for introducing the microwave into the treatment container, microwave feeding means (60) for feeding the microwave to the planar antenna member, and gas introducing means (44) for introducing a necessary treatment gas, into the treatment container (34). This treatment container (34) is provided therein with film stick preventing means (78) made of a dielectric material and so extending from the ceiling plate (54) as to correspond to the portion, on which the unnecessary sticking film is easily deposited. The film stick preventing means (78) is made of a rod-shaped member (104).
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement au plasma qui permet d'empêcher le dépôt d'un film adhésif non nécessaire dans le récipient de traitement utilisant le plasma. L'appareil de traitement au plasma (32) comprend un récipient de traitement (34) possédant une partie plafond ouverte (54a), des parois latérales (34a) et une partie de fond (34b), qui permettent l'évacuation du contenu. Il comprend aussi un lit de montage (36) installé sur le récipient de traitement (34) et destiné au montage d'un ouvrage (W), une plaque de plafond (54) montée étanche aux gaz dans la partie plafond (54a) et faite d'un matériau diélectrique pour permettre la transmission d'ondes millimétriques, un élément d'antenne planaire (58) installé sur la face supérieure de la plaque de plafond (54) et permettant aux ondes millimétriques de pénétrer dans le récipient de traitement, un moyen d'alimentation en ondes millimétriques (60) destiné à alimenter l'élément d'antenne planaire en ondes millimétriques et un moyen d'introduction de gaz (44) destiné à introduire un gaz de traitement nécessaire dans le récipient de traitement (34). Ce récipient de traitement (34) est doté d'un moyen de prévention d'adhérence de film (78) fait d'un matériau diélectrique et faisant saillie depuis la plaque de plafond (54) de manière à correspondre à la partie sur laquelle peut se déposer un film adhésif non nécessaire. Le moyen de prévention d'adhérence de film (78) se présente comme un organe en forme de tige (104).
(JA) プラズマを用いた処理容器内において不要な付着膜が堆積するのを防止することが可能なプラズマ処理装置を提供する。  プラズマ処理装置32は開口された天井部54aと、側壁34aと、底部34bとを有し、内部が真空引き可能になされた処理容器34と、被処理体Wを載置するために前記処理容器34内に設けた載置台36と、天井部54aに気密に装着されマイクロ波を透過する誘電体よりなる天板54と、天板54の上面に設けられてマイクロ波を処理容器内へ導入するための平面アンテナ部材58と、平面アンテナ部材にマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段60と、処理容器34内へ必要な処理ガスを導入するガス導入手段44と、を有する。処理容器34内に、不要な付着膜が堆積し易い部分に対応させて、天板54から延びる誘電体製の膜付着防止手段78が設けられている。膜付着防止手段78は棒状部材104からなっている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)