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1. (WO2007086559) テトラヒドロピラン化合物の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/086559    国際出願番号:    PCT/JP2007/051387
国際公開日: 02.08.2007 国際出願日: 29.01.2007
IPC:
C07D 309/08 (2006.01), C07D 309/04 (2006.01), C07D 309/30 (2006.01)
出願人: UBE INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 1978-96, Oaza Kogushi, Ube-shi, Yamaguchi 7558633 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NISHINO, Shigeyoshi; (米国のみ).
HIROTSU, Kenji; (米国のみ).
SHIMA, Hidetaka; (米国のみ).
SHIKITA, Shoji; (米国のみ).
IWAMOTO, Keiji; (米国のみ).
HARADA, Takashi; (米国のみ)
発明者: NISHINO, Shigeyoshi; .
HIROTSU, Kenji; .
SHIMA, Hidetaka; .
SHIKITA, Shoji; .
IWAMOTO, Keiji; .
HARADA, Takashi;
代理人: TSUKUNI, Hajime; SVAX TS Bldg., 22-12, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
優先権情報:
2006-018413 27.01.2006 JP
2006-347890 25.12.2006 JP
2007-001798 09.01.2007 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING TETRAHYDROPYRAN COMPOUND
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UN COMPOSE TETRAHYDROPYRANE
(JA) テトラヒドロピラン化合物の製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a 4-cyanotetrahydropyran-4-carboxylic acid ester represented by the general formula (4a) or (4b) below, which is characterized in that a bis(2-halogenoethyl) ether represented by the general formula (1) below, a cyanoacetic acid ester represented by the general formula (2) below and an alkali metal alkoxide represented by the general formula (3) below are reacted in an organic solvent. (1) (In the formula, X represents a halogen atom.) (2) (In the formula, R1 represents an alkyl group having 2-6 carbon atoms.) (3) (In the formula, R2 may be the same as or different from R1 and represents an alkyl group having 1-6 carbon atoms, and M represents an alkali metal atom.) (4a) (4b) (In the formulae, R1 and R2 are as defined above.) Also disclosed is a method for producing 4-cyanotetrahydropyran represented by the formula (5), which is characterized in that at least one 4-cyanotetrahydropyran-4-carboxylic acid ester is reacted in a solvent. Further disclosed is a method for producing tetrahydropyran-4-carboxylic acid amide represented by the general formula (6), which is characterized in that the 4-cyanotetrahydropyran and a base are reacted in a solvent.
(FR)L’invention concerne un procédé de fabrication d’un ester de l’acide 4-cyanotétrahydropyrane-4-carboxylique représenté par la formule générale (4a) ou (4b) ci-dessous, ledit procédé étant caractérisé en ce qu’un bis(2-halogénoéthyl) éther représenté par la formule générale (1) ci-dessous, un ester de l’acide cyanoacétique représenté par la formule générale (2) ci-dessous et un alcoxyde de métal alcalin représenté par la formule générale (3) ci-dessous sont mis en réaction dans un solvant organique. (1) (Dans la formule, X représente un atome d’halogène.) (2) (Dans la formule, R1 représente un groupement alkyle ayant de 2 à 6 atomes de carbone.) (3) (Dans la formule, R2 peut être identique ou différent de R1 et représente un groupement alkyle ayant de 1 à 6 atomes de carbone, et M représente un atome de métal alcalin.) (4a) (4b) (Dans les formules, R1 et R2 sont tels que définis ci-dessus.) L’invention concerne également un procédé de fabrication de 4-cyanotétrahydropyrane représenté par la formule (5), caractérisé en ce qu’au moins un ester de l'acide 4-cyanotétrahydropyrane-4-carboxylique est mis en réaction dans un solvant. L’invention concerne également un procédé de fabrication de l’amide de l’acide tétrahydropyrane-4-carboxylique représenté par la formule générale (6), caractérisé en ce que le 4-cyanotétrahydropyrane et une base sont mis en réaction dans un solvant.
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)