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1. (WO2007086393) 基板処理システム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/086393    国際出願番号:    PCT/JP2007/051038
国際公開日: 02.08.2007 国際出願日: 24.01.2007
IPC:
H01L 21/31 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
出願人: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. [JP/JP]; 14-1, Sotokanda 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo1018980 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HORITA, Tomoki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIRAHARA, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MIYA, Hironobu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUDA, Atsuhiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMAZAKI, Hirohisa [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HORITA, Tomoki; (JP).
HIRAHARA, Kazuhiro; (JP).
MIYA, Hironobu; (JP).
SUDA, Atsuhiko; (JP).
YAMAZAKI, Hirohisa; (JP)
代理人: ARAFUNE, Hiroshi; c/o KOYO INTERNATIONAL PATENT AND LAW FIRM, 5F. Nikko Kagurazaka Bldg., 18, Iwatocho, Shinjuku-ku, Tokyo1620832 (JP)
優先権情報:
2006-015295 24.01.2006 JP
2006-255635 21.09.2006 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
(FR) SYSTEME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理システム
要約: front page image
(EN)A substrate processing system is provided with a processing chamber for processing a substrate; a vaporizing unit for vaporizing a liquid material; a supply system for supplying the processing chamber with the material gas vaporized by the vaporizing unit; an exhaust system for exhausting atmosphere from the processing chamber; and a cleaning solution supplying system for supplying the vaporizing unit with the first cleaning solution and the second cleaning solution.
(FR)Système de traitement de substrat comportant une chambre de traitement destinée à traiter un substrat ; une unité de vaporisation destinée à vaporiser un matériau liquide ; un système d'alimentation destiné à alimenter la chambre de traitement en gaz issu du matériau vaporisé par l'unité de vaporisation ; un système d'échappement destiné à évacuer l'atmosphère de la chambre de traitement ; et un système d'alimentation en solutions de nettoyage destiné à alimenter l'unité de vaporisation en première solution de nettoyage et en deuxième solution de nettoyage.
(JA) 基板を処理する処理室と、液体原料を気化させる気化ユニットと、前記気化ユニットで気化された原料ガスを前記処理室へ供給する供給系と、前記処理室内の雰囲気を排出する排出系と、前記気化ユニットへ第1の洗浄液と第2の洗浄液とを供給する洗浄液供給系と、を備える基板処理システムが開示されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)