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1. (WO2007083458) 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/083458    国際出願番号:    PCT/JP2006/324550
国際公開日: 26.07.2007 国際出願日: 08.12.2006
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/38 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SASAKI, Kazuhito [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SASAKI, Kazuhito; (JP)
代理人: TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2006-008538 17.01.2006 JP
発明の名称: (EN) POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RÉSERVE POSITIVE POUR EXPOSITION PAR IMMERSION ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)A positive resist composition for immersion exposure, containing a resin component (A) having an acid-dissociable dissolution inhibiting group and having its alkali solubility increased by the action of an acid and an acid generating agent component (B) capable of generating an acid by exposure. The resin component (A) contains a cyclic principal-chain polymer (A1) and a noncyclic principal-chain polymer (A2) having, in its principal chain, a structural unit (a) derived from acrylic acid. The noncyclic principal-chain polymer (A2) has a structural unit (a1) derived from an acrylic acid ester having acid-dissociable dissolution inhibiting group (p1) represented by the following general formula (p1) [each of R1’ and R2’ independently is a hydrogen atom or a C1-C5 alkyl group, n is an integer of 0 to 3, and Y is a C1-C5 alkyl or a C5-C16 aliphatic cyclic group].
(FR)L'invention concerne une composition de réserve positive pour exposition par immersion, laquelle contient une composante de résine (A) possédant un groupe inhibiteur de dissolution pouvant être dissocié d'un acide et dont la solubilité dans les alcalis est augmentée par l'action d'un acide, ainsi qu'une composante d'agent générateur d'acide (B) capable de générer un acide par exposition. La composante de résine (A) contient un polymère à chaîne principale cyclique (A1) et un polymère à chaîne principale non cyclique (A2) dont la chaîne principale comporte une unité structurelle (a) dérivée d'acide acrylique. Le polymère à chaîne principale non cyclique (A2) possède une unité structurelle (a1) dérivée d'un ester d'acide acrylique possédant un groupe inhibiteur de dissolution pouvant être dissocié d'un acide (p1) représenté par la formule générale (p1), dans laquelle chacun des R1' et R2' représentent indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle C1-C5, n représente un entier compris entre 0 et 3 et Y représente un alkyle C1-C5 ou un groupe cyclique aliphatique C5-C16.
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)