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World Intellectual Property Organization
1. (WO2007080905) スパッタリング方法及びスパッタリング装置

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/080905    国際出願番号:    PCT/JP2007/050200
国際公開日: 19.07.2007 国際出願日: 11.01.2007
C23C 14/34 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01)
出願人: ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOBAYASHI, Motoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAMURA, Hajime [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HORISHITA, Yoshikuni [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ONO, Atsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SATOU, Shigemitsu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAJIMA, Toshio [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOBAYASHI, Motoshi; (JP).
NAKAMURA, Hajime; (JP).
HORISHITA, Yoshikuni; (JP).
ONO, Atsushi; (JP).
SATOU, Shigemitsu; (JP).
NAKAJIMA, Toshio; (JP)
代理人: Exeo Patent & Trademark Company; 6th Fl., Daishin Bldg. 2-6-2 Ebisunishi Shibuya-ku, Tokyo 1500021 (JP)
2006-003444 11.01.2006 JP
(JA) スパッタリング方法及びスパッタリング装置
要約: front page image
(EN)When a film is deposited by sputtering employing an AC power supply, output from the AC power supply is interrupted by detecting occurrence of arc discharge quickly and generation of particles or splash can be prevented effectively by reducing energy when arc discharge is generated. A pair of targets (41a, 41b) provided in a vacuum chamber (11) are applied with a voltage at a predetermined frequency through the AC power supply (E) while changing the polarity alternately, each target is switched alternately to an anode electrode and a cathode electrode, and plasma atmosphere is formed by generating glow discharge between the anode electrode and the cathode electrode in order to sputter each target. In this regard, output voltage waveform to the pair of targets is detected and output from the AC power supply is interrupted when the voltage drop time of the output voltage waveform is judged shorter than the normal glow discharge time.
(FR)Lorsqu'une pellicule est déposée par pulvérisation cathodique à l'aide d'une alimentation en courant alternatif, la sortie de l'alimentation en courant alternatif est interrompue lors de la détection d'une décharge d'arc rapide et la production de particules ou de projections peut être évitée efficacement par réduction d'énergie lorsque la décharge d'arc est produite. Une paire de cibles (41a, 41b) fournies dans une chambre à vide (11) sont soumises à une tension à une fréquence prédéterminée par l'intermédiaire de l'alimentation en courant alternatif (E) alors que la polarité est alternée, chaque cible étant connectée à une anode et à une cathode de manière alternée, et un plasma est formé par production d'une décharge luminescente entre l'anode et la cathode afin de soumettre chaque cible à une pulvérisation. A cet effet, le signal de tension en sortie vers la paire de cibles est détecté et la sortie de l'alimentation en courant alternatif est interrompue lorsque le temps de chute de tension du signal de tension en sortie est plus court que le temps de décharge normal de la décharge luminescente.
(JA) 交流電源を用いたスパッタリングにより成膜する際に、迅速にアーク放電発生を検出して交流電源からの出力を遮断し、アーク放電発生時のエネルギーを小さくしてパーティクルやスプラッシュの発生などを効果的に防止できるようにする。真空チャンバ11内に設けた一対のターゲット41a、41bに、交流電源Eを介して所定の周波数で交互に極性をかえて電圧を印加し、各ターゲットをアノード電極、カソード電極に交互に切替え、アノード電極及びカソード電極間にグロー放電を生じさせてプラズマ雰囲気を形成して各ターゲットをスパッタリングする。その際、一対のターゲットへの出力電圧波形を検出し、この出力電圧波形の電圧降下時間が正常なグロー放電時よりも短時間であると判断した場合、交流電源からの出力を遮断する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)