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1. (WO2007080726) リソグラフィー用洗浄剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/080726    国際出願番号:    PCT/JP2006/324526
国際公開日: 19.07.2007 国際出願日: 08.12.2006
IPC:
G03F 7/32 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SAWADA, Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WAKIYA, Kazumasa [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOSHIYAMA, Jun [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAJIMA, Hidekazu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MIYAMOTO, Atsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KUMAGAI, Tomoya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAWANO, Atsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SAWADA, Yoshihiro; (JP).
WAKIYA, Kazumasa; (JP).
KOSHIYAMA, Jun; (JP).
TAJIMA, Hidekazu; (JP).
MIYAMOTO, Atsushi; (JP).
KUMAGAI, Tomoya; (JP).
SAWANO, Atsushi; (JP)
代理人: AGATA, Akira; Agata & Honda 6th Floor, Ikeden Building 12-5, Shimbashi 2-chome Minato-ku Tokyo 1050004 (JP)
優先権情報:
2006-004093 11.01.2006 JP
発明の名称: (EN) DETERGENT FOR LITHOGRAPHY AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN WITH THE SAME
(FR) DETERGENT POUR LITHOGRAPHIE ET PROCEDE DE FORMATION D'UN MOTIF DE RESIST AVEC CELUI-CI
(JA) リソグラフィー用洗浄剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)Conventional detergents for lithography which contain a surfactant as an active ingredient should have a reduced surfactant concentration because heightened surfactant concentrations result in dissolution of the resin component of a photoresist composition and hence in a dimensional change of a resist pattern. However, the conventional detergents have had a drawback that such a low concentration unavoidably reduces the ability to inhibit pattern falling and defect occurrence. A detergent for lithography is provided which is an aqueous solution containing (A) at least one member selected among nitrogenous cationic surfactants and nitrogenous ampholytic surfactants and (B) an anionic surfactant. This detergent retains a low surface tension even when it has a low concentration. It is effective in inhibiting pattern falling and defect occurrence. It can also inhibit resist patterns from fluctuating in dimension.
(FR)Les détergents classiques pour la lithographie qui contiennent un agent de surface en tant que principe actif devraient avoir une concentration réduite d'agent de surface car les concentrations accrues d'agent de surface ont pour conséquence la dissolution du composant de résine d'une composition de photorésistant et donc un changement en termes de dimension d'un motif de résist. Toutefois, les détergents classiques présentent un désavantage dans le sens qu'une faible concentration réduit inévitablement la capacité d'empêcher la perte de motif et l'apparition de défauts. L'invention concerne un détergent pour lithographie qui est une solution aqueuse contenant (A) au moins un élément sélectionné parmi des agents de surface azotés cationiques et des agents de surface azotés ampholytes et (B) un agent de surface anionique. Ce détergent maintient une faible tension superficielle même à faible concentration. Il est efficace pour empêcher la perte de motif et l'apparition de défauts. Il peut aussi empêcher la fluctuation en termes de dimension des motifs de résist.
(JA) これまでの界面活性剤を有効成分とするリソグラフィー用洗浄剤は、界面活性剤の濃度を高くすると、ホトレジスト組成物中の樹脂成分が溶解し、レジストパターンの寸法の変化を生じるので、界面活性剤の濃度を低くする必要があったが、このように低濃度にすると、パターン倒れやディフェクトの抑制能力が低下するのを免れないという欠点があった。本発明によれば、(A)含窒素カチオン性界面活性剤及び含窒素両性界面活性剤の中から選ばれる少なくとも1種と、(B)アニオン性界面活性剤を含有する水性溶液とすることにより、低濃度でも低表面張力を維持し、効果的にパターン倒れやディフェクトを抑制することができ、さらにはレジストパターンの寸法変動も抑制し得るリソグラフィー用洗浄剤を提供することができる。  
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)