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1. (WO2007077920) 露光装置及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/077920    国際出願番号:    PCT/JP2006/326232
国際公開日: 12.07.2007 国際出願日: 28.12.2006
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
EBIHARA, Akimitsu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: EBIHARA, Akimitsu; (JP)
代理人: TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg. 1-53-9, Karakida Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
優先権情報:
2005-380056 28.12.2005 JP
2006-323072 30.11.2006 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE DEVICE AND FABRICATION METHOD THEREOF
(FR) DISPOSITIF D’EXPOSITION ET SON PROCEDE DE FABRICATION
(JA) 露光装置及びその製造方法
要約: front page image
(EN)An exposure device (100) exposes a substrate (W) to form a pattern. The exposure device (100) includes a first platform tower (14) and a second platform tower (16) arranged at a predetermined interval, and an exposure body (18) having a plurality of highly rigid portions (24, 26, 28) arranged in a space between the first and the second platform tower (14, 16) and each containing a highly rigid part. Thus, even when the generation is changed, it is possible to use a module (highly rigid part) of the preceding generation.
(FR)La présente invention concerne un dispositif d’exposition (100) qui expose un substrat (W) pour former un motif. Le dispositif d’exposition (100) comprend une première tour de plate-forme (14) et une seconde tour de plate-forme (16) disposées à un intervalle prédéterminé, et un corps d’exposition (18) ayant une pluralité de portions hautement rigides (24, 26, 28) disposées dans un espace entre la première et la seconde tour de plate-forme (14, 16), chacune contenant une pièce hautement rigide. Ainsi, même lorsque la génération est modifiée, il est possible d’utiliser un module (pièce hautement rigide) de la génération précédente.
(JA) 基板(W)を露光してパターンを形成する露光装置(100)は、所定間隔を隔てて設置された第1のプラットホーム・タワー(14)と、第2のプラットホーム・タワー(16)と、両プラットホーム・タワー(14,16)相互間の空間内に配置され、高剛性部品をそれぞれ含む複数の高剛性部(24,26,28)を含む露光本体部(18)とを備えている。これにより、世代が変わっても、前の世代のモジュール(高剛性部)を使うことが可能になる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)