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1. (WO2007077885) 光ディスク製造方法及び装置

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/077885    国際出願番号:    PCT/JP2006/326103
国際公開日: 12.07.2007 国際出願日: 27.12.2006
G11B 7/26 (2006.01)
出願人: ORIGIN ELECTRIC COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 18-1, Takada 1-chome, Toshima-ku, Tokyo 1718555 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OZAWA, Naoto [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAMURA, Masahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUZUKI, Takayuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OZAWA, Naoto; (JP).
NAKAMURA, Masahiro; (JP).
SUZUKI, Takayuki; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
2005-380469 28.12.2005 JP
(JA) 光ディスク製造方法及び装置
要約: front page image
(EN)To control warping generated in a disc substrate to be desired warping, an optical disc manufacturing method is provided with a step of supplying the disc substrate with a resin; a step of placing the disc substrate supplied with the resin on the inner diameter area of a rotating table, arranging a space between an area whereupon the disc substrate is not placed and the outer diameter area of the rotating table, and flatting the resin by rotation; and a curing step of curing the resin while the disc substrate placed on the inner diameter area of the rotating table is rotated. In the step of flattening the resin, negative pressure is operated to the area whereupon the rotating disc substrate is not placed. In the curing step, in a status where the negative pressure is operated, the resin of the rotating disc substrate is cured and a warping quantity is controlled.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication de disque optique selon laquelle le gauchissement créé dans le substrat de disque est contrôlé. Le procédé comprend : l’application d’une résine sur le substrat de disque ; la disposition du substrat de disque enduit de résine dans le diamètre intérieur d’une table tournante, laissant un espace entre une surface sur laquelle le substrat de disque ne repose pas et le diamètre extérieur de la table tournante et aplatissant la résine par rotation ; et la polymérisation de la résine alors que le substrat de disque disposé sur le diamètre intérieur de la table tournante est en rotation. L’étape d’aplatissement de la résine consiste à exercer une pression négative sur la surface sur laquelle le substrat de disque en rotation ne repose pas. L’étape de polymérisation consiste, alors qu’une pression négative est exercée, à polymériser la résine du substrat de disque en rotation et à contrôler l’étendue du gauchissement.
(JA) ディスク基板に発生した反りを所望の反りに制御するために、光ディスクの製造方法は、前記ディスク基板に樹脂を供給する工程と、前記樹脂が供給されたディスク基板を回転台の内径部に載置し、前記ディスク基板の非載置部と前記回転台の外径部との間に空隙を設け、回転により前記樹脂を展延する工程と、前記回転台の内径部に載置されている前記ディスク基板を回転中に、前記樹脂を硬化させる硬化工程と、を備え、前記樹脂を展延する工程において、回転中の前記ディスク基板の非載置部に負圧を作用させ、前記硬化工程において、負圧を作用させた状態で、前記回転中のディスク基板の前記樹脂を硬化させて反り量を制御する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)