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1. (WO2007074563) 成膜装置および発光素子の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/074563    国際出願番号:    PCT/JP2006/318863
国際公開日: 05.07.2007 国際出願日: 22.09.2006
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MOYAMA, Kazuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NOZAWA, Toshihisa [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MOYAMA, Kazuki; (JP).
NOZAWA, Toshihisa; (JP)
代理人: ITOH, Tadahiko; 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3, Ebisu 4-Chome, Shibuya-Ku, Tokyo 1506032 (JP)
優先権情報:
2005-374976 27.12.2005 JP
発明の名称: (EN) FILM FORMING APPARATUS AND PROCESS FOR PRODUCING LIGHT EMITTING ELEMENT
(FR) DISPOSITIF DE CONSTITUTION DE PELLICULE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UN ÉLÉMENT ÉMETTEUR DE LUMIÈRE
(JA) 成膜装置および発光素子の製造方法
要約: front page image
(EN)A film forming apparatus characterized by including a treating vessel having, provided thereinside, a holding table for holding of a treatment object substrate, two targets opposite to each other and gas supply means for feeding of a treating gas to be plasma excited into the treating vessel so that by applying of voltage to the two targets and plasma exciting of the treating gas, a conductive layer is formed on an organic layer superimposed on the treatment object substrate.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de constitution de pellicule caractérisé en ce qu'il comprend un récipient de traitement comportant, à l'intérieur, une table de maintien pour maintenir un substrat soumis au traitement, deux cibles opposées l’une à l’autre, et des moyens d’alimentation en gaz pour injecter un gaz de traitement à exciter ou plasma dans le récipient de traitement de sorte qu'en appliquant une tension aux deux cibles et en excitant au plasma le gaz de traitement, une couche conductrice est constituée sur une couche organique superposée au substrat soumis au traitement.
(JA) 被処理基板を保持する保持台を内部に備えた処理容器と、互いに対向する2つのターゲットと、プラズマ励起される処理ガスを前記処理容器内に供給するガス供給手段と、を有し、前記2つのターゲットに電圧を印加して前記処理ガスをプラズマ励起することで、前記被処理基板上の有機層上に導電層を成膜するよう構成されていることを特徴とする成膜装置。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)