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1. (WO2007060869) 化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/060869    国際出願番号:    PCT/JP2006/322765
国際公開日: 31.05.2007 国際出願日: 15.11.2006
IPC:
B24B 37/00 (2006.01), C09K 3/14 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: JSR CORPORATION [JP/JP]; 6-10, Tsukiji 5-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048410 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MOTONARI, Masayuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KUNITANI, Eiichirou [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MOTONARI, Masayuki; (JP).
KUNITANI, Eiichirou; (JP)
代理人: OFUCHI, Michie; 2nd Floor, Ogikubo TM Bldg. 26-13, Ogikubo 5-chome Suginami-ku, Tokyo 1670051 (JP)
優先権情報:
2005-338961 24.11.2005 JP
発明の名称: (EN) AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD
(FR) DISPERSION AQUEUSE POUR POLISSAGE CHIMIQUE MECANIQUE ET PROCEDE DE POLISSAGE CHIMIQUE MECANIQUE
(JA) 化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, which contains abrasive grains (A), an organic acid (B), an oxidizing agent (C), a surface active agent (D) and a dispersion medium (E). In this aqueous dispersion, the surface active agent (D) has a specific structure.
(FR)L’invention concerne une dispersion aqueuse pour polissage chimique mécanique contenant des grains abrasifs (A), un acide organique (B), un oxydant (C), un tensioactif (D) et un milieu de dispersion (E). Dans cette dispersion aqueuse, le tensioactif (D) présente une structure spécifique.
(JA) 化学機械研磨用水系分散体は、(A)砥粒、(B)有機酸、(C)酸化剤、(D)界面活性剤、および(E)分散媒を含有し、前記(D)界面活性剤が特定の構造を有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)