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1. (WO2007034930) 階調をもつフォトマスクおよびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/034930    国際出願番号:    PCT/JP2006/318892
国際公開日: 29.03.2007 国際出願日: 19.09.2006
IPC:
G03F 1/00 (2012.01), G03F 1/46 (2012.01)
出願人: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Ichigaya-Kagacho 1-Chome, Shinjuku-Ku, Tokyo 1628001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
FUJIKAWA, Junji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIMADA, Shu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YOSHIDA, Yuuichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SASAKI, Shiho [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
AMANO, Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ITO, Kimio [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TOYAMA, Nobuhito [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MOHRI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: FUJIKAWA, Junji; (JP).
SHIMADA, Shu; (JP).
YOSHIDA, Yuuichi; (JP).
SASAKI, Shiho; (JP).
AMANO, Tsuyoshi; (JP).
ITO, Kimio; (JP).
TOYAMA, Nobuhito; (JP).
MOHRI, Hiroshi; (JP)
代理人: NIRASAWA, Hiroshi; AZUSA PATENT OFFICE Ueno-Suzuki Bldg. 7th Floor 16-3, Ueno 3-Chome, Taito-Ku Tokyo 1100005 (JP)
優先権情報:
2005-273601 21.09.2005 JP
発明の名称: (EN) PHOTOMASK HAVING GRADATION SEQUENCE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) MASQUE PHOTOGRAPHIQUE AVEC SÉQUENCE DE GRADATION ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 階調をもつフォトマスクおよびその製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is a photomask having a gradation sequence for reducing the number of photolithography steps. The photomask uses a multipurpose photomask blank, prevents reflectance of a light shielding film from increasing, facilitates alignment at the time of forming a semitransparent pattern, and has the gradation sequence by which a semitransparent film can be formed on a light shielding film pattern with excellent step coverage. A method for manufacturing such photomask is also provided. A desired pattern is provided on a transparent substrate, and a film forming the pattern is composed of the light shielding film (114) which substantially does not transmit exposure light, and the semitransparent film (113) which transmits the exposure light at a desired transmittance. The photomask (100) has the gradation sequence wherein a light shielding area having the light shielding film (114) and the semitransparent film (113) stacked in this order on the transparent substrate (101), a semitransparent area having only the semitransparent film (113), and a transmitting area having neither the light shielding film (114) nor the semitransparent film (113) mixedly exist. The photomask is characterized in that the semitransparent film (113) has an antireflection function against the exposure light.
(FR)La présente invention concerne un masque photographique comportant une séquence de gradation afin de réduire le nombre de phases de photolithographie. Le masque photographique utilise une matrice de masque photographique à usages multiples, prévient l'augmentation du facteur de réflexion d'un film de protection contre la lumière, facilite l'alignement au moment de la formation d'un motif semi-transparent, et comporte la séquence de gradation par laquelle un film semi-transparent peut être formé sur un motif de film de protection contre la lumière avec une excellente couverture des gradins. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un tel masque photographique. Un motif désiré est prévu sur un substrat transparent, et un film formant le motif est composé du film de protection contre la lumière (114) qui, fondamentalement, ne transmet pas la lumière d'exposition, et du film semi-transparent (113) qui transmet la lumière d'exposition à un facteur de transmission désiré. Le masque photographique (100) comporte la séquence de gradation dans laquelle coexistent une zone de protection contre la lumière comportant le film de protection contre la lumière (114) et le film semi-transparent (113) empilés dans cet ordre sur le substrat transparent (101), une zone semi-transparente comportant uniquement le film semi-transparent (113), et une zone de transmission ne comportant ni le film de protection contre la lumière (114) ni le film semi-transparent (113). Le masque photographique est caractérisé en ce que le film semi-transparent (113) a une fonction antiréfléchissante contre la lumière d'exposition.
(JA)本発明は、フォトリソグラフィ工程数を減らすための階調をもつフォトマスクにおいて、汎用のフォトマスクブランクを使用し、遮光膜の反射率が高くなるのを防止し、半透明膜パターン形成時のアライメントが容易であり、半透明膜が遮光膜パターン上にステップカバレージ良く形成できる階調をもつフォトマスクおよびその製造方法を提供するものであり、透明基板上に所望のパターンを有し、パターンを形成する膜が、実質的に露光光を透過しない遮光膜(114)と、露光光を所望の透過率で透過する半透明膜(113)とからなり、透明基板(101)上に、遮光膜(114)と半透明膜(113)とがこの順に積層されて存在する遮光領域、半透明膜(113)のみが存在する半透明領域、および遮光膜(114)と半透明膜(113)のいずれも存在しない透過領域、とが混在する階調をもつフォトマスク(100)において、半透明膜(113)が、露光光に対して反射防止機能を有することを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)