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1. (WO2007034747) プラズマ処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/034747    国際出願番号:    PCT/JP2006/318381
国際公開日: 29.03.2007 国際出願日: 15.09.2006
IPC:
H05H 1/24 (2006.01), C23C 16/50 (2006.01)
出願人: SEKISUI CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 4-4, Nishitemma 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308565 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKAJIMA, Setsuo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAKEUCHI, Toshimasa [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MATSUZAKI, Junichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MAYUMI, Satoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NISHIKAWA, Osamu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAITO, Naomichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKANO, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUKUSHI, Makoto [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FURUNO, Yoshihiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAKAJIMA, Setsuo; (JP).
TAKEUCHI, Toshimasa; (JP).
MATSUZAKI, Junichi; (JP).
MAYUMI, Satoshi; (JP).
NISHIKAWA, Osamu; (JP).
SAITO, Naomichi; (JP).
NAKANO, Yoshinori; (JP).
FUKUSHI, Makoto; (JP).
FURUNO, Yoshihiko; (JP)
代理人: WATANABE, Noboru; Kudanminami Green Bldg. 3F. 7-7, Kudanminami 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1020074 (JP)
優先権情報:
2005-275589 22.09.2005 JP
2006-105122 06.04.2006 JP
2006-105123 06.04.2006 JP
発明の名称: (EN) PLASMA PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) プラズマ処理装置
要約: front page image
(EN)[PROBLEMS] To provide an atmospheric pressure plasma treatment device capable of coping with a large area of an object to be treated and assuring preferable treatment at a normal discharge treatment start point. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A first metal surface (21a) of a first stage unit (21) of a stage (20) of an atmospheric pressure plasma processing device is exposed and a dielectric work (W) to be treated is placed. A second stage unit (22) is arranged at the periphery of the first stage unit (21). A solid dielectric layer (25) is arranged on a second metal (24) of the second stage unit (22) and the peripheral portion of the work (W) to be treated is placed in an internal dielectric portion (26) of the solid dielectric layer (25). An electrode (11) forms a run-up discharge (D2) in a second movement range (R2) on the second stage unit (22) and moves to a first movement range (R1) on the first stage unit (21) to form a normal plasma discharge (D1).
(FR)Le problème à résoudre dans le cadre de cette invention est d’obtenir un dispositif de traitement au plasma à pression atmosphérique permettant de prendre en charge une vaste zone d’un objet à traiter et d’assurer un traitement privilégié à un point de départ de décharge normale. La solution proposée consiste en un dispositif de traitement au plasma à pression atmosphérique dans lequel une première surface métallique (21a) d’une première unité fonctionnelle (21) d’une phase (20) est exposée et un objet diélectrique (W) à traiter est placé. Une seconde unité fonctionnelle (22) est disposée à la périphérie de la première (21). Une couche diélectrique solide (25) est disposée sur une seconde surface métallique (24) de la seconde unité (22), et la partie périphérique de l’objet (W) à traiter est placée dans une zone diélectrique interne (26) de la couche diélectrique solide (25). Une électrode (11) forme une décharge de point fixe (D2) dans une seconde plage de mouvement (R2) sur la seconde unité (22) et passe à une première plage de mouvement (R1) sur la première unité (21) pour former une décharge de plasma normale (D1).
(JA)【課題】被処理物の大面積化に対応できるとともに、正規の放電処理開始地点での処理の良好性確保できる大気圧プラズマ処理装置を提供する。 【解決手段】大気圧プラズマ処理装置のステージ20の第1ステージ部21の第1金属表面21aを露出させ、誘電体製被処理物Wを設置する。第1ステージ部21の周縁には第2ステージ部22を設ける。この第2ステージ部22の第2金属24の上に固体誘電体層25を設け、この固体誘電体層25の内側誘電部26に被処理物Wの周縁部を設置する。電極11は、第2ステージ部22上の第2移動範囲R2で助走放電D2を形成したうえで、第1ステージ部21上の第1移動範囲R1へ移動し、正規のプラズマ放電D1を形成する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)