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1. (WO2007034719) 化合物およびその製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/034719    国際出願番号:    PCT/JP2006/318151
国際公開日: 29.03.2007 国際出願日: 13.09.2006
IPC:
C07C 69/734 (2006.01), C07C 51/09 (2006.01), C07C 51/367 (2006.01), C07C 59/70 (2006.01), C07C 59/72 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIONO, Daiju [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
DAZAI, Takahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIRAYAMA, Taku [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KASAI, Kohei [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HADA, Hideo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SHIONO, Daiju; (JP).
DAZAI, Takahiro; (JP).
HIRAYAMA, Taku; (JP).
KASAI, Kohei; (JP).
HADA, Hideo; (JP)
代理人: TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2005-271760 20.09.2005 JP
2005-320550 04.11.2005 JP
2005-320551 04.11.2005 JP
2006-076270 20.03.2006 JP
2006-167263 16.06.2006 JP
2006-239982 05.09.2006 JP
発明の名称: (EN) COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSÉ, PROCÉDÉ POUR PRODUIRE LE COMPOSÉ, COMPOSITION PHOTORÉSIST POSITIVE ET PROCÉDÉ POUR FORMER DES MOTIFS DE PHOTORÉSIST
(JA) 化合物およびその製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a compound represented by the general formula (A-1) below (wherein R’s respectively represent a hydrogen atom or an acid-cleavable dissolution inhibiting group, and at least one of them represents an acid-cleavable dissolution inhibiting group; R11-R17 respectively represent an alkyl group having 1-10 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group and may include a heteroatom in the structure; g and j respectively represent an integer of not less than 1, k and q respectively represent an integer of not less than 0, and g + j + k + q is not more than 5; a represents an integer of 1-3; b represents an integer of not less than 1, l and m respectively represent an integer of not less than 0, and b + l + m is not more than 4; c represents an integer of not less than 1, n and o respectively represent an integer of not less than 0, and c + n + o is not more than 4; and A represents a group represented by the general formula (Ia) below, a group represented by the general formula (Ib) below or an alicyclic group).
(FR)Cette invention concerne un composé représenté par la formule générale (A-1) ci-dessous (ladite formule comprenant des radicaux R représentant respectivement un atome d'hydrogène ou un groupe inhibant la dissolution par clivage à l’acide, et au moins l’un des radicaux R représentant un groupe inhibant la dissolution par clivage à l’acide ; R11-R17 représentant respectivement un groupement alkyle ayant 1 à 10 atomes de carbone ou un groupe hydrocarboné aromatique, et R11-R17 pouvant inclure un hétéro atome dans leur structure ; g et j représentant respectivement un entier relatif supérieur ou égal à 1, k et q représentant respectivement un entier relatif non inférieur à 0, et g + j + k + q étant inférieur ou égal à 5 ; a représentant un entier relatif entre 1 et 3, b représentant un entier relatif supérieur ou égal à 1, l et m représentant respectivement un entier relatif non inférieur à 0, et b + l + m étant inférieur ou égal à 4 ; c représentant un entier relatif non inférieur à 1, n et o représentant respectivement un entier relatif non inférieur à 0, et c + n + o étant inférieur ou égal à 4 ; et un groupe A représenté par la formule générale (Ia) ci-dessous, ou par la formule générale (Ib) ci-dessous ou par un groupe alicyclique).
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)