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1. (WO2007034610) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法、及び、プラズマディスプレイの隔壁形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/034610    国際出願番号:    PCT/JP2006/312894
国際公開日: 29.03.2007 国際出願日: 28.06.2006
IPC:
G03F 7/031 (2006.01), G03F 7/029 (2006.01), H01J 9/02 (2006.01), H01J 11/02 (2006.01), H05K 3/00 (2006.01)
出願人: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630449 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MIYASAKA, Masahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KUMAKI, Takashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MIYASAKA, Masahiro; (JP).
KUMAKI, Takashi; (JP)
代理人: HASEGAWA, Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Ginza First Bldg., 10-6 Ginza 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
優先権情報:
2005-273654 21.09.2005 JP
2006-012995 20.01.2006 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, PROCESS FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD, AND METHOD OF FORMING PARTITION WALL FOR PLASMA DISPLAY
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, ÉLÉMENT PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSIST, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UNE CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ ET PROCÉDÉ DE FORMATION D’UNE CLOISON DE SÉPARATION POUR UN ÉCRAN PL
(JA) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法、及び、プラズマディスプレイの隔壁形成方法
要約: front page image
(EN)A photosensitive resin composition which comprises (A) a binder polymer, (B) a photopolymerizable compound having at least one polymerizable, ethylenically unsaturated bond, (C) a photopolymerization initiator, (D) an amine compound represented by the following general formula (1), and (E) a sensitizing dye. In the general formula (1), R1 to R4 each independently represents C1-6 alkyl.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine photosensible qui comprend (A) un liant polymère, (B) un composé photopolymérisable ayant au moins une liaison éthyléniquement insaturée polymérisable, (C) un initiateur de photopolymérisation, (D) un composé amine représenté par la formule générale (1), et (E) un colorant de sensibilisation. Dans la formule générale (1), R1 à R4 représentent chacun indépendamment un groupe alkyle en C1 à C6.
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)