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1. (WO2007032181) ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/032181    国際出願番号:    PCT/JP2006/316326
国際公開日: 22.03.2007 国際出願日: 21.08.2006
IPC:
G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/09 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KUSAKA, Ayako [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IWASHITA, Jun [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KUSAKA, Ayako; (JP).
IWASHITA, Jun; (JP)
代理人: TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2005-270775 16.09.2005 JP
発明の名称: (EN) NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF RESIST PATTERN FORMATION
(FR) COMPOSITION DE PHOTORESIST NEGATIF, ET PROCEDE DE FORMATION D’UN MOTIF DE PHOTORESIST
(JA) ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)A negative resist composition capable of forming a resist pattern of excellent configuration; and a method of resist pattern formation. There is provided a negative resist composition comprising alkali-soluble resin component (A), acid generator component (B) capable of acid generation upon exposure to light and crosslinking agent component (C), wherein the crosslinking agent component (C) contains epoxy crosslinking agent (C1).
(FR)L’invention concerne une composition de photorésist négatif capable de former un motif de photorésist présentant une excellente configuration ; et un procédé de formation d’un motif de photorésist. La composition de photorésist négatif selon l’invention comprend une résine soluble dans les alcalis (A), un générateur d’acide (B) capable de générer un acide lors d'une exposition à la lumière, et un agent de réticulation (C), l’agent de réticulation (C) contenant un agent de réticulation époxy (C1).
(JA) 良好な形状のレジストパターンを形成できるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法が提供される。このネガ型レジスト組成物は、(A)アルカリ可溶性樹脂成分、(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分および(C)架橋剤成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記(C)架橋剤成分はエポキシ系架橋剤(C1)を含む。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)