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1. (WO2007029765) 保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/029765    国際出願番号:    PCT/JP2006/317736
国際公開日: 15.03.2007 国際出願日: 07.09.2006
IPC:
G03F 7/11 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ISHIDUKA, Keita [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIRANO, Tomoyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ISHIDUKA, Keita; (JP).
HIRANO, Tomoyuki; (JP)
代理人: HASEGAWA, Yoko; #403, Horiguchi Bldg. 2-3, Nihombashi Ningyocho 2-chome Chuo-ku, Tokyo 1030013 (JP)
優先権情報:
2005-261629 09.09.2005 JP
発明の名称: (EN) MATERIAL FOR PROTECTIVE FILM FORMATION AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME
(FR) MATÉRIAU POUR LA FORMATION D’UN FILM PROTECTEUR ET PROCÉDÉ POUR LA FORMATION DE MOTIF DE PHOTORÉSIST L’UTILISANT
(JA) 保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)[PROBLEMS] To provide a material for protective film formation suitable particularly for a localized liquid immersion exposure process, which can improve scan follow-up properties of a liquid for liquid immersion exposure by providing suitable contact angle and falling angle to a material for protective film formation and has basic properties (such as water repellency) required of a protective film used in a liquid immersion exposure process, and a method for photoresist pattern formation using the same. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A material for protective film formation, which is a material for the formation of a protective film stacked on a photoresist film on a substrate and contains an alkali-soluble polymer comprising a cyclic hydrocarbon containing a fluorohydroxyalkyl group, and a method for photoresist pattern using the material for protective film formation.
(FR)Le problème à résoudre dans le cadre de la présente invention consiste à fournir un matériau pour la formation d’un film protecteur approprié en particulier pour un procédé d’exposition localisée par immersion dans un liquide, lequel peut améliorer les propriétés de suivi de balayage d'un liquide pour une exposition par immersion dans un liquide en fournissant un angle de contact et un angle de chute appropriés au matériau pour la formation d’un film protecteur et possède des propriétés basiques (telles que l’hydrophobie) nécessaires pour un film protecteur utilisé dans un procédé d'exposition par immersion dans un liquide, et un procédé pour la formation de motif de photorésist l’utilisant. La solution proposée est un matériau pour la formation d’un film protecteur, lequel est un matériau pour la formation d'un film protecteur collé sur un film de photorésist sur un substrat et contient un polymère alcalino-soluble comprenant un hydrocarbure cyclique contenant un groupe fluorohydroxyalkyle, et un procédé pour former un motif de photorésist utilisant le matériau pour la formation d’un film protecteur.
(JA)課題 保護膜形成材料に適当な接触角および転落角をもたせることにより、液浸露光用液体のスキャン追従性能を向上させるとともに、液浸露光プロセスに用いられる保護膜に要求される基本特性(撥水性等)を備えた、特に局所液浸露光プロセスに好適に適用される保護膜形成用材料、およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法を提供する。 解決手段 基板上のホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための材料であって、フルオロヒドロキシアルキル基を有する環状炭化水素を含むアルカリ可溶性ポリマーを含有する保護膜形成用材料、および該保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターンの形成方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)