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1. (WO2007029754) アルミナ膜基板及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/029754    国際出願番号:    PCT/JP2006/317678
国際公開日: 15.03.2007 国際出願日: 06.09.2006
予備審査請求日:    06.07.2007    
IPC:
C30B 29/20 (2006.01), H01L 21/314 (2006.01), H01L 21/8242 (2006.01), H01L 21/8246 (2006.01), H01L 27/105 (2006.01), H01L 27/108 (2006.01), H01L 29/78 (2006.01), H01L 43/08 (2006.01), H01L 43/10 (2006.01)
出願人: NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE [JP/JP]; 2-1, Sengen 1-chome, Tsukuba-shi, Ibaraki 3050047 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YOSHITAKE, Michiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAGYU, Shinjiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YOSHITAKE, Michiko; (JP).
YAGYU, Shinjiro; (JP)
代理人: NISHIZAWA, Toshio; Three F Minami Aoyama Bldg. 7F, 11-1, Minami-Aoyama 6-chome, Minato-ku, Tokyo 1070062 (JP)
優先権情報:
2005-258421 06.09.2005 JP
発明の名称: (EN) ALUMINA FILM SUBSTRATE AND ITS FABRICATION METHOD
(FR) SUBSTRAT DE PELLICULE D’ALUMINE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) アルミナ膜基板及びその製造方法
要約: front page image
(EN)An alumina film substrate has its surface that is so flat that an inspection of the surface by high-speed electron diffraction results in a banded pattern. A method for fabricating the alumina film substrate comprises a step for forming an epitaxial alumina film in such a way that after the surface of the substrate including aluminum is polished so as to be flattened, the substrate is heated in an oxygen atmosphere, thereby segregating the aluminum included in the substrate to the surface. There is provided a tunnel barrier material for forming a tunnel barrier layer having a uniform thin-film thickness, having an excellent breakdown resistance so that tunnel current is made to flow without causing a dielectric breakdown even if a voltage exceeding 5 × 109 V/m is applied, and not causing tunnel current fluctuations depending on the place. The tunnel barrier material can improve the operation efficiency, reliability, and lifetime, when it is applied to various elements using tunnel currents.
(FR)Le substrat de pellicule d’alumine selon l’invention présente une surface si plane que le résultat d’une inspection de la surface par diffraction électronique à haute vitesse est un motif en bande. Le procédé de fabrication de ce substrat de pellicule d’alumine comprend une étape de formation d’une pellicule d’alumine épitaxiale de telle manière qu’après que la surface du substrat comportant de l’aluminium est polie pour être aplanie, le substrat soit chauffé dans une atmosphère d’oxygène, reléguant ainsi l’aluminium contenu dans le substrat à la surface. Un matériau écran de tunnel est disposé pour obtenir une couche écran en tunnel présentant une épaisseur de pellicule mince uniforme, présentant une excellente résistance au claquage de sorte que le courant de tunnel peut circuler sans provoquer de claquage diélectrique même lorsqu’une tension dépassant 5 × 109 V/m est appliquée, et sans provoquer de fluctuations du courant de tunnel en fonction de l’endroit. Le matériau écran de tunnel peut améliorer l’efficacité de fonctionnement, la fiabilité et la durée de vie, lorsqu’il est appliqué sur divers éléments utilisant des courants de tunnel.
(JA) 上記課題を解決するために、発明1のアルミナ膜基板は、前記アルミナ膜が高速電子線回折による検査の結果、縞状となるほどに平坦な表面を有することを特徴とする構成を採用した。  発明2は、発明1のアルミナ膜基板を製造する方法であって、アルミニウムを含有した基板表面を平坦に研磨した後、酸素雰囲気中にて加熱することにより、前記基板中のアルミニウムを表面に偏析してエピタキシャルアルミナ膜を形成させることを特徴とする構成を採用した。薄膜の厚さが均一で、耐圧性にすぐれ5×109V/m以上の電圧を印加しても絶縁破壊を起こさずにトンネル電流を流すことができ、トンネル電流の大きさに場所によるばらつきを生じさせないトンネルバリア層を有し、トンネル電流を利用する各種素子に適用した場合、動作効率、信頼性、寿命を向上させることができるトンネルバリア層材料を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)