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1. (WO2007029743) 分子性物質の成膜方法及びその装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/029743    国際出願番号:    PCT/JP2006/317659
国際公開日: 15.03.2007 国際出願日: 06.09.2006
予備審査請求日:    05.07.2007    
IPC:
C23C 14/12 (2006.01), C23C 14/28 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
出願人: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY [JP/JP]; 4-1-8, Hon-cho, Kawaguchi-shi, Saitama 3320012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOINUMA, Hideomi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MATSUMOTO, Yuji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ITAKA, Kenji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YANAGINUMA, Seiichirou [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOINUMA, Hideomi; (JP).
MATSUMOTO, Yuji; (JP).
ITAKA, Kenji; (JP).
YANAGINUMA, Seiichirou; (JP)
代理人: HIRAYAMA, Kazuyuki; 6th Floor, Shinjukugyoen Bldg., 2-3-10, Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
優先権情報:
2005-258588 06.09.2005 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR FORMATION OF FILM OF MOLECULAR SUBSTANCE AND APPARATUS FOR SAID METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DE SUBSTANCE MOLÉCULAIRE ET APPAREIL POUR LEDIT PROCÉDÉ
(JA) 分子性物質の成膜方法及びその装置
要約: front page image
(EN)This invention provides a method for formation of a film of a molecular substance, comprising applying light from a light source to a material to be vapor deposited and forming a film of a molecular substance on a substrate while regulating the vapor deposition speed of the vapor deposition material. The film can be formed while maintaining the molecular structure of the molecular substance by applying light with the strength of the continuous wave thereof being selected. In this case, when the light is in a pulse form, in the light irradiation, any one of or a plurality of the pulse wave height value, the pulse width, and the pulse spacing are selected. The apparatus (1) for forming a film of a molecular substance comprises a vacuum tank (3) having a light permeable window (2), a holding fixture (4) for holding a material to be vapor deposited disposed within the vacuum tank (3), a substrate holding fixture (7) for holding a substrate (6) on which the vapor deposition material evaporated from the holding fixture (4) is deposited, and a light source (8) disposed so that light is applied to the vapor deposition material within the vacuum tank (3) through the window (2) of the vacuum tank. The wavelength of the light source (8) has a wavelength energy which can form a film while maintaining the molecular structure of the molecular substance.
(FR)La présente invention concerne un procédé de formation de film de substance moléculaire, consistant à appliquer de la lumière à partir d’une source de lumière sur un matériau devant être déposé en phase vapeur et à constituer un film d’une substance moléculaire sur un substrat, tout en régulant la vitesse de déposition en phase vapeur du matériau de déposition en phase vapeur. Le film peut s’obtenir tout en maintenant la structure moléculaire de la substance moléculaire en appliquant de la lumière après avoir sélectionné la force de l’onde continue de celle-ci. Dans ce cas, lorsque la lumière est sous forme d’impulsions, dans l’irradiation de lumière, on sélectionne n’importe lequel ou une pluralité parmi les paramètres suivants: la valeur de hauteur d’onde d’impulsion, la largeur d’impulsion et l’espacement des impulsions. L’appareil (1) permettant d’obtenir un film d’une substance moléculaire comprend un réservoir à dépression (3) ayant une fenêtre perméable à la lumière (2), un dispositif de maintien (4) permettant de maintenir un matériau à déposer en phase vapeur placé à l’intérieur du réservoir à dépression (3), un dispositif de maintien de substrat (7) permettant de maintenir un substrat (6) sur lequel le matériau de déposition en phase vapeur évaporé depuis le dispositif de maintien (4) est déposé, et une source de lumière (8) disposée pour appliquer de la lumière au matériau de déposition en phase vapeur à l’intérieur du réservoir à dépression (3) à travers la fenêtre (2) du réservoir à dépression. La longueur d’onde de la source de lumière (8) possède une énergie de longueur d’onde capable de constituer un film tout en préservant la structure moléculaire de la substance moléculaire.
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)