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1. (WO2007029542) ナノインプリント用の膜形成組成物およびパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/029542    国際出願番号:    PCT/JP2006/316882
国際公開日: 15.03.2007 国際出願日: 28.08.2006
IPC:
B29C 59/02 (2006.01), G03F 7/075 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), C09D 183/00 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SAKAMOTO, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMASHITA, Naoki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ISHIKAWA, Kiyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SAKAMOTO, Yoshinori; (JP).
YAMASHITA, Naoki; (JP).
ISHIKAWA, Kiyoshi; (JP)
代理人: SHOBAYASHI, Masayuki; Takase Bldg., 25-8, Higashi-ikebukuro 1-chome, Toshima-ku, Tokyo 1700013 (JP)
優先権情報:
2005-262009 09.09.2005 JP
発明の名称: (EN) FILM FORMING COMPOSITION FOR NANOIMPRINTING AND METHOD FOR PATTERN FORMATION
(FR) COMPOSITION FILMOGENE POUR LA NANOIMPRESSION ET PROCÉDÉ DE TRAÇAGE DE MOTIF
(JA) ナノインプリント用の膜形成組成物およびパターン形成方法
要約: front page image
(EN)This invention provides a film forming composition for nanoimprinting, which has excellent resistance to etching with oxygen gas, can prevent the separation of a transfer pattern, can eliminate a problem of a holing time on a substrate, and is also excellent in transferability, and photosensitive resist, a nanostructure, a method for pattern formation using the same, and a program for realizing the method for pattern formation. The film forming composition for nanoimprinting comprises a polymeric silicon compound having the function of causing a photocuring reaction. Preferably, the polymeric silicon compound has a functional group cleavable as a result of response to electromagnetic waves and causes a curing reaction upon exposure to electromagnetic waves. More preferred are siloxane polymer compounds, silicon carbide polymer compounds, polysilane polymer compounds, and silazane polymer compounds, or any mixture thereof.
(FR)La présente invention concerne une composition filmogène pour la nanoimpression, laquelle présente une excellente résistance à l’écaillage par l'oxygène gazeux, permet la prévention de la séparation d'un motif de transfert, permet l’élimination du problème de temps d'entaille sur un substrat et présente également une transférabilité excellente, un enduit protecteur photosensible, une nanostructure, un procédé de traçage de motif l’utilisant, et un programme servant à réaliser le procédé de traçage du motif. La composition filmogène pour la nanoimpression comprend un composé de silicium polymérique présentant une fonction de déclenchement d'une réaction de durcissement par effet photochimique. Le composé de silicium polymérique comporte de préférence un groupe fonctionnel fissible en réponse à des ondes électromagnétiques et provoque une réaction de durcissement par effet photochimique par exposition à des ondes électromagnétiques. Les composés les plus adaptés sont les composés polymères du siloxane, les composés polymères du carbure de silicium, les composés polymères du polysilane, et les composés polymères du silazane, ou un mélange de ceux-là.
(JA) 本発明は、酸素ガスに対するエッチング耐性に優れるとともに、転写パターンの剥離を防止し、基板上における保持時間についての問題を解消し、転写性にも優れるナノインプリント用の膜形成組成物及び感光性レジスト、ナノ構造体、これらを用いたパターン形成方法、並びにこのパターン形成方法を実現するためのプログラムを提供する。  本発明のナノインプリント用の膜形成組成物は、光硬化反応を生じる機能を有する高分子ケイ素化合物を含む。高分子ケイ素化合物は、電磁波に感応して開裂する官能基を有し、電磁波照射によって硬化反応を生じるものであることが好ましく、シロキサン系高分子化合物、シリコンカーバイド系高分子化合物、ポリシラン系高分子化合物、およびシラザン系高分子化合物またはこれらの任意の混合物であることがさらに好ましい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)