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1. (WO2007026610) 積層研磨パッドの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/026610    国際出願番号:    PCT/JP2006/316699
国際公開日: 08.03.2007 国際出願日: 25.08.2006
IPC:
B24B 37/20 (2012.01), B24B 37/24 (2012.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD. [JP/JP]; 17-18, Edobori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5508661 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HIROSE, Junji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
DOURA, Masato [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HIROSE, Junji; (JP).
DOURA, Masato; (JP)
代理人: SUZUKI, Takao; SHIN-OSAKA MT Bldg. 1, 13-9, Nishinakajima 5-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320011 (JP)
優先権情報:
2005-249056 30.08.2005 JP
発明の名称: (EN) LAMINATE POLISHING PAD
(FR) TAMPON DE POLISSAGE STRATIFIÉ
(JA) 積層研磨パッドの製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for production of a laminate polishing pad which comprises a reduced number of steps and is excellent in productivity rate, and which causes no detachment between a polishing layer and a cushion layer and can prevent the gutter clogging caused by a slurry or the like. Also disclosed is a laminate polishing pad produced by the method. A method for production of a laminate polishing pad comprising the steps of preparing a gas bubble-dispersed urethane composition by a mechanical floss process, ejecting the composition onto a cushion layer continuously while feeding the cushion layer, curing the composition while controlling the thickness of the composition evenly to form a polishing layer comprising a polyurethane foam, thereby producing a long laminate sheet, and cutting the sheet.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant de produire un tampon de polissage stratifié comprenant un nombre réduit d’étapes, présentant un excellent taux de productivité, ne provoquant pas de détachement entre une couche de polissage et une couche d’amortissement et empêchant l’engorgement de la goulotte dû à de la boue ou une autre substance similaire. L’invention porte également sur un tampon de polissage stratifié produit à l’aide de ce procédé. Le procédé de production d’un tampon de polissage stratifié comprend les étapes consistant à : préparer une composition d’uréthane dispersée par des bulles de gaz à l’aide d’un procédé de nettoyage mécanique ; projeter la composition sur une couche d’amortissement de manière continue tout en alimentant cette dernière ; durcir la composition tout en régulant l’épaisseur de la composition pour qu’elle soit régulière afin de former une couche de polissage comprenant de la mousse de polyuréthane, ce qui permet de produire une longue feuille stratifiée ; et à couper la feuille.
(JA) 製造工程が少なく、生産性に優れる積層研磨パッドの製造方法を提供することを目的とする。また、研磨層とクッション層との間で剥離することがなく、かつスラリー等による溝詰まりを抑制することができる積層研磨パッドの製造方法、及び前記方法によって製造される積層研磨パッドを提供することを目的とする。本発明の積層研磨パッドの製造方法は、メカニカルフロス法により気泡分散ウレタン組成物を調製する工程、クッション層を送り出しつつその上に気泡分散ウレタン組成物を連続的に吐出する工程、厚さを均一に調整しつつ気泡分散ウレタン組成物を硬化させることによりポリウレタン発泡体からなる研磨層を形成して長尺積層シートを作製する工程、及び長尺積層シートを裁断する工程を含む。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)