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1. (WO2007026475) 感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/026475    国際出願番号:    PCT/JP2006/314291
国際公開日: 08.03.2007 国際出願日: 19.07.2006
IPC:
G03F 7/023 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/022 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630449 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SAWABE, Ken [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NOJIRI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SAWABE, Ken; (JP).
NOJIRI, Takeshi; (JP)
代理人: HASEGAWA, Yoshiki; Soei Patent and Law Firm Ginza First Bldg. 10-6 Ginza 1-chome Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
優先権情報:
2005-250086 30.08.2005 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET ÉLÉMENT PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
要約: front page image
(EN)A photosensitive resin composition comprising compound (a) obtained by reacting a polybasic acid anhydride with phenolic hydroxyl of a novolac phenolic resin and 1,2-quinonediazide compound (b). A photosensitive resin composition satisfactorily excelling in photosensitivity, image contrast, resolution and adherence can be obtained by addition of the component of 1,2-quinonediazide compound (b) to the component (a) obtained by reacting a polybasic acid anhydride with phenolic hydroxyl of a novolac phenolic resin.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine photosensible comprenant un composé (a) obtenu en faisant réagir un anhydride d’acide polybasique avec un hydroxyle phénolique d'une résine phénolique novolaque et un composé 1,2-quinonediazide (b). Une composition de résine photosensible excellant de manière satisfaisante en ce qui concerne la photosensibilité, le contraste d'image, la résolution et l'adhérence, peut être obtenue par l'addition du composant du composé 1,2-quinonediazide (b) au composant (a) obtenu en faisant réagir un anhydride d’acide polybasique avec un hydroxyle phénolique d'une résine phénolique novolaque.
(JA) (a)ノボラック型フェノール樹脂のフェノール性水酸基に多塩基酸無水物を反応させて得られる化合物と、(b)1,2-キノンジアジド化合物と、を含有する感光性樹脂組成物である。上記感光性樹脂組成物によれば、ノボラック型フェノール樹脂が有するフェノール性水酸基に多塩基酸無水物を反応させた(a)成分に、1,2-キノンジアジド化合物からなる(b)成分を更に含有させることにより、光感度、画像コントラスト、解像度及び密着性が十分に優れるものとすることができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)