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1. (WO2007023949) 焼結体研磨部を持つ工具およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/023949    国際出願番号:    PCT/JP2006/316737
国際公開日: 01.03.2007 国際出願日: 25.08.2006
IPC:
B24D 3/00 (2006.01), B24B 53/12 (2006.01)
出願人: ISHIZUKA, Hiroshi [JP/JP]; (JP)
発明者: ISHIZUKA, Hiroshi; (JP)
代理人: KUZUWA, Kiyoshi; Patent Attorneys KUZUWA & PARTNERS T & T Bldg. 8-21, Tomihisa-cho Shinjuku-ku, Tokyo 1620067 (JP)
優先権情報:
2005-243529 25.08.2005 JP
2006-209236 31.07.2006 JP
発明の名称: (EN) TOOL WITH SINTERED BODY POLISHING SURFACE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
(FR) OUTIL AVEC SURFACE DE POLISSAGE DE CORPS FRITTÉ ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 焼結体研磨部を持つ工具およびその製造方法
要約: front page image
(EN)An efficiently processible polishing tool, particularly used for a CMP pad conditioner, capable solving problems in a fixing strength for fixing abrasive grains to a base plate and problems in nonuniform polished surface and a method of effectively manufacturing the polishing tool. The polishing tool (1) comprises a polishing part formed of a super abrasive grain sintered body sintered integrally with the lining material of a cemented carbide. The polishing part comprises a plurality of polishing units (2) with top parts. The top parts are positioned on an approximately same plane. The polishing units (2) are formed by forming a linear groove (3) group in the polishing part.
(FR)La présente invention concerne un outil de polissage qui peut être traité de façon efficace, particulièrement utilisé pour un dispositif de conditionnement de tampon de polissage chimique et mécanique, capable de résoudre des problèmes de résistance de fixation pour fixer des grains abrasifs à une plaque de base et des problèmes de surface non uniformément polie et un procédé de fabrication efficace de l’outil de polissage. L’outil de polissage (1) comprend une partie de polissage formée d’un corps fritté à grains super abrasifs fritté de façon solidaire du matériau de revêtement d’un carbure métallique. La partie de polissage comprend une pluralité d’unités de polissage (2) avec des parties supérieures. Les parties supérieures sont positionnées sur un plan approximativement identique. Les unités de polissage (2) sont formées en formant un groupe de rainures linéaires (3) dans la partie de polissage.
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)