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1. (WO2007023941) 保持装置、組立てシステム、スパッタリング装置、並びに加工方法及び加工装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/023941    国際出願番号:    PCT/JP2006/316721
国際公開日: 01.03.2007 国際出願日: 25.08.2006
IPC:
B23Q 3/15 (2006.01), B81C 3/00 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIBAZAKI, Yuichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SHIBAZAKI, Yuichi; (JP)
代理人: TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9 Karakida Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
優先権情報:
2005-245439 26.08.2005 JP
発明の名称: (EN) HOLDING APPARATUS, ASSEMBLY SYSTEM, SPUTTERING APPARATUS, MACHINING METHOD AND MACHINING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE MAINTIEN, SYSTÈME D’ASSEMBLAGE, APPAREIL DE VAPORISATION ET PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D’USINAGE
(JA) 保持装置、組立てシステム、スパッタリング装置、並びに加工方法及び加工装置
要約: front page image
(EN)An electromagnetic chuck (20) supplies a specific microcoil among a plurality of microcoils (MC) with a current, and permits an electromagnetic force to operate to a material (M) in cooperation with a magnet of the material (M). Therefore, the material (M) can be held by having it positioned at a desired position on a base plane (a position corresponding to the microcoil supplied with the current). Furthermore, since lifting force is applied to the material (M) by a gas jetted from a gas supply path (42), influence of a frictional force operated between the material (M) and an upper plane of the electromagnetic chuck when positioning the material (M) can be reduced.
(FR)Cette invention concerne un dispositif de serrage électromagnétique (20) qui alimente en courant une microbobine particulière parmi une pluralité de microbobines (MC), ce qui permet à une force électromagnétique d’agir sur un matériau (M) en relation avec un aimant du matériau (M). Ainsi, le matériau (M) peut être maintenu par son placement à une position donnée sur un plan de base (position correspondant à la microbobine alimentée en courant). En outre, comme la force d’élévation est appliquée au matériau (M) par un gaz projeté d’un canal d’alimentation en gaz (42), l’effet d’une force de friction agissant entre le matériau (M) et un plan supérieur du dispositif de serrage électromagnétique lors du placement du matériau (M) peut être réduit.
(JA) 電磁チャック(20)が、複数のマイクロコイル(MC)のうちの特定のマイクロコイルに電流を供給し、物体(M)の磁石と協働して物体(M)に電磁力を作用させるので、物体(M)をベース面上の所望の位置(電流を供給したマイクロコイルに対応する位置)に位置決めした状態で保持することができる。また、気体供給路(42)から噴出される気体により、物体(M)に対して浮上力が与えられるので、物体(M)を位置決めする際に物体(M)と電磁チャック上面との間に作用する摩擦力の影響を低減することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)