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1. (WO2007023749) 脱臭装置及び脱臭方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/023749    国際出願番号:    PCT/JP2006/316267
国際公開日: 01.03.2007 国際出願日: 18.08.2006
IPC:
B01D 53/84 (2006.01), B01D 53/38 (2006.01), B01D 53/52 (2006.01)
出願人: KANZAKI EISEI SISETU KUMIAI [JP/JP]; 2676 Kanzaki-cho, Okayama-shi, Okayama 7048138 (JP) (米国を除く全ての指定国).
FUJIWARA, Tsunetoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: FUJIWARA, Tsunetoshi; (JP)
代理人: AIKAWA, Toshihiko; Nakano Bldg. No.3 12-5, Minami Ikebukuro 2-chome Toshima-ku, Tokyo 1710022 (JP)
優先権情報:
2005-241193 23.08.2005 JP
発明の名称: (EN) DEODORIZATION APPARATUS AND DEODORIZATION METHOD
(FR) APPAREIL DE DESODORISATION ET PROCEDE DE DESODORISATION
(JA) 脱臭装置及び脱臭方法
要約: front page image
(EN)It is intended to provide a deodorization apparatus wherein the step of washing a packing layer is unnecessary or the packing layer may be washed only at a low frequency. A deodorization apparatus having a packing layer packed with a material carrying a microorganism and a watering means of spraying water having a pH value of 1.4 or lower (a spray water) to the packing layer, wherein the spray water and an odorous gas countercurrently pass to each other in the packing column so that the odorous gas is deodorized. This apparatus may be further provided with a treating tank having the following constitution. Namely, a treating tank wherein a pathway through which an odorous gas and a spray water pass is formed, a packing column packed with a material carrying a microorganism is formed in the pathway, a water receiver part for receiving the spray water having passed through the packing layer is located at the bottom below the packing layer, a feeding port for feeding the odorous gas into the pathway is located below the packing layer, and a discharge port for discharging the odorous gas from the pathway is located above the packing column.
(FR)L'invention entend proposer un appareil de désodorisation caractérisé en ce que la phase de lavage d'une couche de garniture est superflue ou en ce que la couche de garniture peut être lavée seulement à basse fréquence. L'invention concerne un appareil de désodorisation ayant une couche de garniture garnie d'un matériau transportant un micro-organisme et d'un moyen d'hydratation pour pulvérisation d'eau d'une valeur de pH inférieure ou égale à 1,4 (eau de pulvérisation) sur la couche de garniture, caractérisé en ce que l'eau de pulvérisation et un gaz odorant passent à contre-courant l'un par rapport à l'autre dans la colonne d'étanchéité pour désodoriser le gaz odorant. Cet appareil peut être en outre muni d'un réservoir de traitement de la constitution suivante, à savoir, un réservoir de traitement caractérisé en ce qu'un passage est formé à travers lequel passent un gaz odorant et de l'eau de pulvérisation, une colonne d'étanchéité garnie d'un matériau transportant un micro-organisme est formée dans le passage, une pièce de réception d'eau permettant de recevoir l'eau de pulvérisation étant passée à travers la couche de garniture est situé au fond sous la couche de garniture, un orifice d'alimentation permettant d'injecter le gaz odorant dans le passage est situé sous la couche de garniture, et un orifice de décharge permettant de décharger le gaz odorant depuis le passage est situé au-dessus de la colonne d'étanchéité.
(JA) 充填層洗浄工程を行う必要がないか又は必要な充填層洗浄工程の頻度が小さい脱臭装置を提供する。  微生物担持物が充填された充填層と、該充填層にpH1.4以下の水(散水)を散水する散水手段と、を備えてなり、該充填層内に散水と臭気ガスとを互いに向流方向で流通させることで、臭気ガスを脱臭する脱臭装置である。また、本装置は、さらに下記の構成を有する処理槽を有してもよい。即ち、処理槽が、内部に臭気ガス及び散水が流通する経路を有し、該経路に微生物担持物が充填された充填層が配設されている、該充填層の下方底部に該充填層を通過した散水を受ける受水部、該充填層の下方に臭気ガスを該経路に導入する供給口、及び該充填層の上方に臭気ガスを該経路から排出する排出口を有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)